[发明专利]决定方法、曝光方法、信息处理装置、介质以及制造方法

摘要

本发明涉及决定方法、曝光方法、信息处理装置、介质以及制造方法。一种决定方法，是在将掩模的图案经由投影光学系统转印到基板的曝光装置中决定在表示所述投影光学系统的成像特性的变动的模型式中使用的表示所述成像特性的饱和值的系数的决定方法。

主权项

1.一种决定方法，在将掩模的图案经由投影光学系统转印到基板的曝光装置中决定在表示所述投影光学系统的成像特性的变动的模型式中使用的表示所述成像特性的饱和值的系数，其特征在于，具有：第1工序，根据多次测量所述成像特性而得到的多个测量值、和从所述模型式得到的所述基板的曝光开始时的所述成像特性的预测值，求出表示所述成像特性的饱和值的第1系数；第2工序，判定所述第1系数与在存储于所述曝光装置中的所述模型式中使用的表示所述成像特性的饱和值的第2系数之差是否收敛于容许范围；第3工序，在所述差收敛于所述容许范围的情况下，以在所述模型式中使用所述第1系数的方式更新所述系数；以及第4工序，在所述差未收敛于所述容许范围的情况下，比较从所述预测值得到的所述第1系数的第1评价值、和根据在求所述第2系数时从所述模型式得到的所述成像特性的预测值得到的所述第2系数的第2评价值，如果所述第1评价值小于所述第2评价值，则将所述第1系数作为暂定的系数来更新所述系数，如果所述第1评价值为所述第2评价值以上，则不更新所述系数。