[发明专利]Offner双路结构成像光谱仪及方法有效
申请号: | 201810495678.X | 申请日: | 2018-05-22 |
公开(公告)号: | CN108981914B | 公开(公告)日: | 2020-12-01 |
发明(设计)人: | 孟鑫;刘磊;张冰;江升;李志增;韩顺利 | 申请(专利权)人: | 中国电子科技集团公司第四十一研究所 |
主分类号: | G01J3/28 | 分类号: | G01J3/28;G01J3/04;G01J3/02 |
代理公司: | 济南圣达知识产权代理有限公司 37221 | 代理人: | 李琳 |
地址: | 266555 山东省*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | 本发明公开了一种Offner双路结构成像光谱仪及方法,包括沿光路分布的第一反射物镜、凸面光栅、第二反射物镜、第一平面反射镜、中间狭缝、第二平面反射镜、第三平面反射镜和面阵探测器,使得来自探测目标的光束依次经过第一反射物镜、凸面光栅、第二反射物镜和第一平面反射镜形成的第一反射路径后,经过中间狭缝的滤光后,依次通过第二平面反射镜、第二反射物镜、凸面光栅、第一反射物镜和第三平面反射镜形成的第二反射路径后,成像在面阵探测器的靶面上。 | ||
搜索关键词: | offner 结构 成像 光谱仪 方法 | ||
【主权项】:
1.一种Offner双路结构成像光谱仪,其特征是:包括沿光路分布的第一反射物镜、凸面光栅、第二反射物镜、第一平面反射镜、中间狭缝、第二平面反射镜、第三平面反射镜和面阵探测器,使得来自探测目标的光束依次经过第一反射物镜、凸面光栅、第二反射物镜和第一平面反射镜形成的第一反射路径后,经过中间狭缝的滤光后,依次通过第二平面反射镜、第二反射物镜、凸面光栅、第一反射物镜和第三平面反射镜形成的第二反射路径后,成像在面阵探测器的靶面上。
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