[发明专利]Offner双路结构成像光谱仪及方法有效

专利信息
申请号: 201810495678.X 申请日: 2018-05-22
公开(公告)号: CN108981914B 公开(公告)日: 2020-12-01
发明(设计)人: 孟鑫;刘磊;张冰;江升;李志增;韩顺利 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第四十一研究所
主分类号: G01J3/28 分类号: G01J3/28;G01J3/04;G01J3/02
代理公司: 济南圣达知识产权代理有限公司 37221 代理人: 李琳
地址: 266555 山东省*** 国省代码: 山东;37
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种Offner双路结构成像光谱仪及方法,包括沿光路分布的第一反射物镜、凸面光栅、第二反射物镜、第一平面反射镜、中间狭缝、第二平面反射镜、第三平面反射镜和面阵探测器,使得来自探测目标的光束依次经过第一反射物镜、凸面光栅、第二反射物镜和第一平面反射镜形成的第一反射路径后,经过中间狭缝的滤光后,依次通过第二平面反射镜、第二反射物镜、凸面光栅、第一反射物镜和第三平面反射镜形成的第二反射路径后,成像在面阵探测器的靶面上。
搜索关键词: offner 结构 成像 光谱仪 方法
【主权项】:
1.一种Offner双路结构成像光谱仪,其特征是:包括沿光路分布的第一反射物镜、凸面光栅、第二反射物镜、第一平面反射镜、中间狭缝、第二平面反射镜、第三平面反射镜和面阵探测器,使得来自探测目标的光束依次经过第一反射物镜、凸面光栅、第二反射物镜和第一平面反射镜形成的第一反射路径后,经过中间狭缝的滤光后,依次通过第二平面反射镜、第二反射物镜、凸面光栅、第一反射物镜和第三平面反射镜形成的第二反射路径后,成像在面阵探测器的靶面上。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国电子科技集团公司第四十一研究所,未经中国电子科技集团公司第四十一研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201810495678.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code