[发明专利]阵列基板的制造方法、阵列基板和显示面板

摘要

本发明公开了一种阵列基板的制造方法、阵列基板和显示面板，属于显示技术领域。该方法包括：在衬底基板上依次形成有源层、第一栅绝缘层和第一栅极；在形成有第一栅极的衬底基板上形成第二栅绝缘层，第二栅绝缘层包括沿远离有源层的方向设置的第一子绝缘层和第二子绝缘层，第一子绝缘层的氢含量大于第二子绝缘层的氢含量；对有源层进行氢化处理。本发明通过形成包括氢含量较大的第一子绝缘层以及氢含量较小的第二子绝缘层，使得在氢化处理的过程中，氢能够更好的向有源层的方向扩散，提高氢浓度梯度向有源层方向的分布，提高对于有源层的氢化作用。解决了相关技术中影响有源层的电学性能的问题。达到了提高有源层的电学性能的效果。

主权项

1.一种阵列基板的制造方法，其特征在于，所述方法包括：在衬底基板上依次形成有源层、第一栅绝缘层和第一栅极，所述有源层由低温多晶硅或微晶硅构成；在形成有所述第一栅极的衬底基板上形成第二栅绝缘层，所述第二栅绝缘层包括沿远离所述有源层的方向设置的第一子绝缘层和第二子绝缘层，所述第一子绝缘层的氢含量大于所述第二子绝缘层的氢含量；对所述有源层进行氢化处理。