[发明专利]一种基于双光子聚合曝光的并行光刻系统及方法在审
| 申请号： | 201810511347.0 | 申请日： | 2018-05-24 |
| 公开（公告）号： | CN108710268A | 公开（公告）日： | 2018-10-26 |
| 发明（设计）人： | 魏一振;王洪庆;杨鑫 | 申请（专利权）人： | 杭州志英科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F7/00 |
| 代理公司： | 杭州天勤知识产权代理有限公司 33224 | 代理人： | 胡红娟 |
| 地址： | 310012 浙江省杭*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种基于双光子聚合曝光的并行光刻系统，包括：光源模块，包括飞秒激光器和相位型体全息光学元件，相位型体全息光学元件对飞秒激光器发出的飞秒激光进行调制，形成若干呈空间点阵排列的光点；液晶光阀，通过计算机载入二值掩模图像，控制每个光点独立地开关；二维扫描振镜模块，将液晶光阀打开的光点扫描至显微打印模块；显微打印模块，根据计算机设计的三维维纳结构，利用扫描振镜模块扫描的光点对感光材料进行分层并行光刻；计算机，控制液晶光阀、扫描振镜模块以及显微打印模块的动作。本发明还公开了该并行光刻系统进行并行光刻的方法。本发明的并行光刻系统，该系统能够实现快速、并行双光子聚合曝光光刻，并且成本较低。 | ||
| 搜索关键词： | 并行 光刻系统 光点 打印模块 液晶光阀 双光子 显微 聚合 扫描振镜模块 飞秒激光器 光学元件 体全息 光刻 感光材料 扫描 二维扫描振镜 二值掩模图像 计算机设计 曝光 飞秒激光 光源模块 空间点阵 计算机 曝光光 分层 调制 载入 | ||
【主权项】：
1.一种基于双光子聚合曝光的并行光刻系统，其特征在于，包括：光源模块，包括飞秒激光器和相位型体全息光学元件，所述相位型体全息光学元件对飞秒激光器发出的飞秒激光进行调制，形成若干呈空间点阵排列的光点；液晶光阀，通过计算机载入二值掩模图像，控制每个光点独立地开关；二维扫描振镜模块，将液晶光阀打开的光点扫描至显微打印模块；显微打印模块，根据计算机设计的三维维纳结构，利用扫描振镜模块扫描的光点对感光材料进行分层并行光刻；计算机，设计二值掩模图像和三维维纳结构，根据二值掩模图像和三维维纳结构控制液晶光阀、扫描振镜模块以及显微打印模块的动作。
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