[发明专利]一种宽带宽高斯型低反光纤光栅的刻写方法在审

专利信息
申请号: 201810511600.2 申请日: 2018-05-25
公开(公告)号: CN108732677A 公开(公告)日: 2018-11-02
发明(设计)人: 沈华;舒剑;朱日宏;矫苛蓉;关智文 申请(专利权)人: 南京理工大学
主分类号: G02B6/02 分类号: G02B6/02
代理公司: 南京理工大学专利中心 32203 代理人: 朱沉雁
地址: 210094 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种宽带宽高斯型低反光纤光栅的刻写方法,首先搭建宽带宽高斯型低反光纤光栅的刻写装置,紫外光束通过两片柱面镜聚焦后经相位掩模板入射到光纤上,使纤芯折射率发生变化,刻写出低反光纤光栅,通过电控平移台沿紫外光束传输方向平移第二柱面镜可控制高斯型低反光纤光栅的带宽,利用光谱仪在线测量低反光纤光栅的反射光谱可读出其带宽,若带宽达不到要求,将带宽读数反馈至计算机,计算机通过软件控制电控平移台,电控平移台平移第二柱面镜,即可刻写出满足带宽要求的宽带宽高斯型低反光纤光栅。本发明具有精度高、响应快、自动调节、可控性高等优点。
搜索关键词: 低反光纤光栅 高斯 刻写 宽带 电控平移台 带宽 柱面镜 平移 紫外光束 纤芯折射率 相位掩模板 传输方向 带宽要求 反射光谱 刻写装置 软件控制 在线测量 光谱仪 可控性 可控制 计算机 入射 读出 光纤 聚焦 反馈 响应
【主权项】:
1.一种宽带宽高斯型低反光纤光栅的刻写方法,其特征在于,方法步骤如下:第一步,搭建宽带宽高斯型低反光纤光栅的刻写装置,转入第二步:所述宽带宽高斯型低反光纤光栅的刻写装置包括准分子紫外激光器(1)、第一反射镜(2)、第二反射镜(3)、第一柱面镜(4)、第二柱面镜(5)、电控平移台(6)、相位掩膜板(7)和光纤支架(8),共光轴依次设置第二反射镜(3)、第一柱面镜(4)、第二柱面镜(6)和相位掩膜板(7),第一柱面镜(4)的轴水平放置,第二柱面镜(5)的轴竖直放置,第二柱面镜(5)通过倾斜台固定在电控平移台(6)上,第二反射镜(3)位于第一反射镜(2)的反射光路上,准分子紫外激光器(1)位于第一反射镜(2)的入射光路上,光纤水平固定在紧贴相位掩膜板(7)的光纤支架(8)上且位于入射光线的相反方向,光谱仪通过跳线连接光纤的一端,采集光纤的反射光谱数据,电控平移台(6)通过计算机控制;第二步,打开准分子紫外激光器(1),准分子紫外激光器(1)发出紫外光束,经第一反射镜(2)反射至第二反射镜(3),经第二反射镜(3)反射至第一柱面镜(4),经第一柱面镜(4)将光束纵向聚焦至第二柱面镜(5),再经第二柱面镜(5)将光束横向聚焦至相位掩膜板(7),并入射至光纤,光纤纤芯吸收紫外光折射率发生变化,形成光栅,通过跳线将数据传输到光谱仪上,同时将数据实时反馈至计算机,转入第三步;第三步,判断光谱仪所接收光谱带宽是否为所需带宽数值,若不是,计算机控制电控平移台(6),转入第四步;第四步,电控平移台(6)接收信号并调整第二柱面镜(5),改变紫外激光光束在水平方向上的聚焦度,使得光谱仪接收的光谱带宽达到所需带宽数值。
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