[发明专利]用于碳离子注入的掺杂物组合物的储存和负压输送在审
申请号: | 201810522047.2 | 申请日: | 2013-12-20 |
公开(公告)号: | CN108675273A | 公开(公告)日: | 2018-10-19 |
发明(设计)人: | A.K.辛哈;D.C.海德曼;L.A.布朗;S.M.坎珀;R.施;D.卢;邱文斌;高建纲 | 申请(专利权)人: | 普莱克斯技术有限公司 |
主分类号: | C01B23/00 | 分类号: | C01B23/00;C01B3/00;H01J37/30;H01J37/317;H01L21/265;C23C14/34;F17C1/00 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 段菊兰;万雪松 |
地址: | 美国康*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本发明提供用于输送含CO的掺杂物气体组合物的供应源。所述组合物包括控制量的稀释剂气体混合物例如氙气和氢气,其各自以控制的体积比率提供以确保最佳的碳离子注入性能。所述组合物可包装为由含CO的供应源和稀释剂混合物供应源组成的掺杂物气体套件。备选地,所述组合物可预先混合并从单一来源引入,所述单一来源可响应沿排流路径所达到的负压条件而启动以允许掺杂物混合物从所述装置的内部体积受控流入离子源设备中。 | ||
搜索关键词: | 供应源 掺杂物气体 单一来源 混合物 掺杂物 碳离子 稀释剂混合物 离子源设备 稀释剂气体 负压输送 负压条件 体积比率 预先混合 注入性能 氢气 控制量 备选 排流 受控 套件 氙气 储存 响应 引入 | ||
【主权项】:
1.用于离子注入工序的掺杂物气体组合物,其包含:包含氙气(Xe)和氢气(H2)的惰性稀释剂气体混合物,其中所述Xe和所述H2以有效量被包含在内,所述有效量为约0.02至约0.20的Xe:H2体积比率;和以约0.10至约0.30的范围内的(Xe+H2):(碳基材料)体积比率被包含在内的碳基材料。
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