[发明专利]一种制备铜铟镓碲薄膜的方法在审
申请号: | 201810522180.8 | 申请日: | 2018-05-28 |
公开(公告)号: | CN108767059A | 公开(公告)日: | 2018-11-06 |
发明(设计)人: | 刘科高;李静;许超;赵忠新;刘宏 | 申请(专利权)人: | 山东建筑大学 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L31/032;H01L21/368 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 250101 山东省*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | 一种制备铜铟镓碲薄膜材料的制备方法,属于光电薄膜制备技术领域,本发明通过如下步骤得到,首先清洗玻璃基片,然后将TeO2、Cu(NO3)2、In(NO3)3和Ga(NO3)3先后放入溶剂中,配制澄清透明溶液,用旋涂法在玻璃片上得到前驱体薄膜,自然晾干,放入有水合联氨的可密闭容器,使前驱体薄膜样品不与联氨接触,将装有前驱体薄膜样品的密闭容器进行加热后取出样品进行干燥,可通过增加反应次数和热处理工艺改善薄膜质量,得到铜铟镓碲光电薄膜。本发明不需要高温高真空条件,对仪器设备要求低,生产成本低,生产效率高,易于操作。所得铜铟镓碲光电薄膜有较好的连续性和均匀性,这种新工艺为制备高性能的铜铟镓碲光电薄膜提供了一种成本低、可实现工业化的生产方法。 | ||
搜索关键词: | 铜铟镓 光电薄膜 制备 前驱体薄膜样品 放入 薄膜 制备技术领域 高真空条件 可密闭容器 前驱体薄膜 热处理工艺 生产成本低 制备高性能 薄膜材料 玻璃基片 澄清透明 密闭容器 生产效率 水合联氨 仪器设备 自然晾干 玻璃片 均匀性 新工艺 旋涂法 溶剂 联氨 加热 配制 清洗 取出 生产 | ||
【主权项】:
1.一种制备铜铟镓碲薄膜的方法,包括如下顺序的步骤:玻璃基片或硅基片的清洗;先将2.0~5.0份TeO2放入30~120份的溶剂中,待其完全反应后,将1.0~3.0份Cu(NO3)2、1.0~3.0份In(NO3)3和0.1~3.0份Ga(NO3)3放入,使溶液中的物质均匀混合;制作表面均匀涂布步骤b所述溶液的基片,自然晾干,得到前驱体薄膜样品;d.将步骤c所得前驱体薄膜样品置于支架上,放入有水合联氨的可密闭容器,使前驱体薄膜样品不与联氨接触;水合联氨放入量为30.0~45.0份;将上述装有前驱体薄膜样品的密闭容器放入烘箱中,加热至160~220℃之间,保温时间10~60小时,然后冷却到室温取出;e.取出自然干燥后,重复b、c和d步骤2~6次,以增加所制备薄膜的厚度;f.将步骤e所得物,使其常温自然干燥后,增加热处理工艺,在管式加热炉中加热至200~400℃,保温5~15小时,即得到铜铟镓碲光电薄膜。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
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H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的