[发明专利]一种超厚无氢类金刚石薄膜及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201810528013.4 申请日: 2018-05-29
公开(公告)号: CN108411258A 公开(公告)日: 2018-08-17
发明(设计)人: 张林;张朝奎;王明磊 申请(专利权)人: 大连维钛克科技股份有限公司
主分类号: C23C14/32 分类号: C23C14/32;C23C14/06;C23C14/02
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 116600 辽宁省大连市*** 国省代码: 辽宁;21
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种超厚无氢类金刚石薄膜及其制备方法,金属基体上部涂覆Cr粘结层,Cr粘结层上部为C/C多层复合膜,C/C多层复合膜是由软C膜和硬C膜交替沉积构成。制备方法,包括以下步骤:(1)工件预处理;(2)离子清洗;(3)Cr粘结层的制备;(4)C/C多层复合膜的制备。本发明用真空离子镀技术通过控制基体偏压制备了软硬交替的C/C多层膜,各层界面相互匹配,薄膜具有较好的结合力和韧性,高偏压下离子轰击产生的诱导效应导致薄膜中的SP2键向sp3键转变,增强了类金刚石薄膜的耐磨性能。这种同质多层结构,使薄膜的硬度高达40GPa,摩擦系数低于0.15,并具有良好耐久性,因此扩大了类金刚石薄膜工程化应用范围。
搜索关键词: 制备 薄膜 多层复合膜 粘结层 类金刚石薄膜 无氢类金刚石 超厚 真空离子镀技术 工程化应用 工件预处理 多层结构 基体偏压 交替沉积 金属基体 离子轰击 离子清洗 摩擦系数 耐磨性能 诱导效应 多层膜 高偏压 交替的 结合力 同质 涂覆 匹配
【主权项】:
1.一种超厚无氢类金刚石薄膜,其特征在于:金属基体(1)上部涂覆Cr粘结层(2),Cr粘结层(2)上部为C/C多层复合膜(3),C/C多层复合膜(3)是由软C膜和硬C膜交替沉积构成。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于大连维钛克科技股份有限公司,未经大连维钛克科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201810528013.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top