[发明专利]一种超厚无氢类金刚石薄膜及其制备方法在审
申请号: | 201810528013.4 | 申请日: | 2018-05-29 |
公开(公告)号: | CN108411258A | 公开(公告)日: | 2018-08-17 |
发明(设计)人: | 张林;张朝奎;王明磊 | 申请(专利权)人: | 大连维钛克科技股份有限公司 |
主分类号: | C23C14/32 | 分类号: | C23C14/32;C23C14/06;C23C14/02 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 116600 辽宁省大连市*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | 一种超厚无氢类金刚石薄膜及其制备方法,金属基体上部涂覆Cr粘结层,Cr粘结层上部为C/C多层复合膜,C/C多层复合膜是由软C膜和硬C膜交替沉积构成。制备方法,包括以下步骤:(1)工件预处理;(2)离子清洗;(3)Cr粘结层的制备;(4)C/C多层复合膜的制备。本发明用真空离子镀技术通过控制基体偏压制备了软硬交替的C/C多层膜,各层界面相互匹配,薄膜具有较好的结合力和韧性,高偏压下离子轰击产生的诱导效应导致薄膜中的SP2键向sp3键转变,增强了类金刚石薄膜的耐磨性能。这种同质多层结构,使薄膜的硬度高达40GPa,摩擦系数低于0.15,并具有良好耐久性,因此扩大了类金刚石薄膜工程化应用范围。 | ||
搜索关键词: | 制备 薄膜 多层复合膜 粘结层 类金刚石薄膜 无氢类金刚石 超厚 真空离子镀技术 工程化应用 工件预处理 多层结构 基体偏压 交替沉积 金属基体 离子轰击 离子清洗 摩擦系数 耐磨性能 诱导效应 多层膜 高偏压 交替的 结合力 同质 涂覆 匹配 | ||
【主权项】:
1.一种超厚无氢类金刚石薄膜,其特征在于:金属基体(1)上部涂覆Cr粘结层(2),Cr粘结层(2)上部为C/C多层复合膜(3),C/C多层复合膜(3)是由软C膜和硬C膜交替沉积构成。
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