[发明专利]光传导装置在审
| 申请号： | 201810531590.9 | 申请日： | 2016-01-18 |
| 公开（公告）号： | CN108916824A | 公开（公告）日： | 2018-11-30 |
| 发明（设计）人： | 诺伯特·库尔施奈尔;D·弗里茨 | 申请（专利权）人： | SMR专利责任有限公司 |
| 主分类号： | F21V7/24 | 分类号： | F21V7/24;F21V8/00;F21W107/10;F21Y115/10 |
| 代理公司： | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人： | 王爽 |
| 地址： | 卢森堡*** | 国省代码： | 卢森堡;LU |
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| 摘要： | 本发明涉及一种光传导装置(2)，其具有光耦合侧(4)、反射侧(6)、反射层(8)和光解耦侧(10)，其中所述反射侧(6)位于所述光解耦侧(10)之下且所述反射层(8)位于所述反射侧(6)之下，所述光解耦侧(10)与所述反射侧(6)相对而置，并因此也与所述反射层(8)相对而置，在所述光解耦侧(10)与所述反射侧(6)并因此也与所述反射层(8)之间的间隔随着与所述光耦合侧(4)的距离增大而减小，其特征在于对于一定数量光源(18)优化的光传导装置(2)具有以该数量漏斗构成的反射侧(6)和反射层(8)，其中该漏斗的纵轴线沿着耦合的光的主方向延伸，其该数量为2、3、4、5、6或更多。 | ||
| 搜索关键词： | 反射 反射层 光解 光传导装置 光耦合 漏斗 距离增大 耦合的 减小 光源 延伸 优化 | ||
【主权项】：
1.光传导装置(2)，其具有光耦合侧(4)、反射侧(6)、反射层(8)和光解耦侧(10)，其中所述反射侧(6)位于所述光解耦侧(10)之下且所述反射层(8)位于所述反射侧(6)之下，所述光解耦侧(10)与所述反射侧(6)相对而置，并因此也与所述反射层(8)相对而置，在所述光解耦侧(10)与所述反射侧(6)并因此也与所述反射层(8)之间的间隔随着与所述光耦合侧(4)的距离增大而减小，其特征在于对于一定数量光源(18)优化的光传导装置(2)具有以该数量漏斗构成的反射侧(6)和反射层(8)，其中该漏斗的纵轴线沿着耦合的光的主方向延伸，其该数量为2、3、4、5、6或更多。
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