[发明专利]一种彩色滤光片的制备基板及彩色滤光片基板的制造方法有效

专利信息
申请号: 201810532454.1 申请日: 2018-05-29
公开(公告)号: CN108776406B 公开(公告)日: 2021-06-01
发明(设计)人: 刘学敏 申请(专利权)人: 武汉华星光电技术有限公司
主分类号: G02F1/1335 分类号: G02F1/1335
代理公司: 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 代理人: 钟子敏
地址: 430070 湖北省武汉市*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明公开了一种彩色滤光片的制备基板及彩色滤光片基板的制造方法,包括:有效区域,用于在其内形成矩阵排列的第一颜色色阻块、第二颜色色阻块和第三颜色色阻块;非有效区域,设置在所述有效区域的周围;对位精度检测图案,设置在所述非有效区域内,且包括第一对位精度检测图案、第二对位精度检测图案和第三对位精度检测图案,所述制备基板能够利用同一所述光罩图案而在所述制备基板上形成所述第一颜色色阻块、所述第二颜色色阻块和所述第三颜色色阻块。通过上述方式,本发明能够确定不同颜色层间图形的相对位置精度,提高产品质量。
搜索关键词: 一种 彩色 滤光 制备 片基板 制造 方法
【主权项】:
1.一种彩色滤光片的制备基板,其特征在于,包括:有效区域,用于在其内形成矩阵排列的第一颜色色阻块、第二颜色色阻块和第三颜色色阻块;非有效区域,设置在所述有效区域的周围;对位精度检测图案,设置在所述非有效区域内,且包括第一对位精度检测图案、第二对位精度检测图案和第三对位精度检测图案;其中,当利用一共用光罩图案在所述制备基板上形成矩阵排列的所述第一颜色色阻块时,根据所述光罩图案投影在所述第一对位精度检测图案中的位置而调整修正所述光罩图案的位置;当利用所述共用光罩图案在所述制备基板上形成矩阵排列的所述第二颜色色阻块时,根据所述光罩图案投影在所述第二对位精度检测图案中的位置而调整修正所述光罩图案的位置;当利用所述共用光罩图案在所述制备基板上形成矩阵排列的所述第三颜色色阻块时,根据所述光罩图案投影在所述第三对位精度检测图案中的位置而调整修正所述光罩图案的位置,从而利用同一所述光罩图案而在所述制备基板上形成所述第一颜色色阻块、所述第二颜色色阻块和所述第三颜色色阻块。
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