[发明专利]一种基于表面贴电阻型的半模基片集成波导衰减器有效

专利信息
申请号: 201810534254.X 申请日: 2018-05-29
公开(公告)号: CN108736120B 公开(公告)日: 2020-03-27
发明(设计)人: 彭浩;赵发举;周翼鸿;刘宇;杨涛 申请(专利权)人: 电子科技大学
主分类号: H01P1/22 分类号: H01P1/22
代理公司: 电子科技大学专利中心 51203 代理人: 闫树平
地址: 611731 四川省成*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明涉及微波电路技术,具体涉及一种基于表面贴电阻的半模基片集成波导,HMSIW衰减器。本发明在HMSIW本体中,沿着与电磁场传播的垂直方向等距离开3条槽线,并在其中引入等间距的耗能元件‑电阻,增加传播通道上的损耗。当电磁波在HMSIW本体中传播的时候,被槽线隔断的HMSIW表面结构将阻挡电磁波的继续传播,此时表面贴电阻在传播TE0.5,0模的同时对信号进行一定程度的衰减。其衰减量的大小与电阻值成正比关系:当电阻值是零欧时,近似于常规的HMSIW结构,无衰减;当电阻值无穷大时,等效于HMSIW本体被槽线隔断,传输通道断开。本发明提供了一种新的HMSIW衰减器结构,且增加了带宽和平坦度。
搜索关键词: 一种 基于 表面 电阻 半模基片 集成 波导 衰减器
【主权项】:
1.一种基于表面贴电阻型半模基片集成波导衰减器,包括HMSIW本体、渐变线和微带线,HMSIW本体通过两条渐变线与两条微带线相连,其特征在于:所述HMSIW本体设有3条互相平行等距的槽线,用于安装贴片电阻;HMSIW本体宽边长Ws,即金属化通孔行与HMSIW虚拟磁壁面的距离,长边为Ls;渐变线与HMSIW本体宽边的衔接边为Wt,在两条Wt的金属化通孔一侧各自引入一个匹配用的共计2个金属化通孔,且2个匹配用金属化通孔与HMSIW中的中间槽线成轴对称;所述3条槽线沿垂直于HMSIW本体中电磁波传播方向设置,长度Lc有Ws‑2*Dvp≤Lc≤Ws,宽度Gap有Gap≤0.15mm;HMSIW本体关于中间槽线对称;各槽线中的贴片电阻设置一致,均以Gap_W等间距设置,0mm<Gap_W<Ws/5,每条槽线中的一个最外侧电阻与HMSIW虚拟磁壁面平齐,所有贴片电阻的阻值R均相同。Lm为微带线的长度,Wm为微带线的线宽,Lt为渐变线长度,Dvp为金属化通孔的直径,Svp为同行相邻金属化通孔的中心孔间距,Lx为匹配用金属化通孔的圆心距离对应的HMSIW本体宽边横向距离,0mm<Lx<3mm,Ly为匹配用金属化通孔与同侧金属化通孔的纵向孔心距,0mm<Ly<(Ws‑Wt)/2,Gap_L为相邻槽线的中心间距。
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