[发明专利]一种半导体硅晶圆旋转光刻机有效
| 申请号： | 201810534801.4 | 申请日： | 2018-05-29 |
| 公开（公告）号： | CN108710269B | 公开（公告）日： | 2020-08-04 |
| 发明（设计）人： | 侯玉闯;薛鹏 | 申请（专利权）人： | 绍兴盈顺机电科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 绍兴市寅越专利代理事务所(普通合伙) 33285 | 代理人： | 焦亚如 |
| 地址： | 312030 浙江省绍*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明属于半导体制造技术领域，具体的说是一种半导体硅晶圆旋转光刻机，包括主框架、移动支架、曝光装置、旋转台、动平衡装置、减震装置、基础框架，所述主框架内部设有旋转台，主框架上方滑动安装移动支架；所述移动支架中部下方固定连接曝光装置；所述曝光装置下方设有旋转台；旋转台内设有动平衡装置；所述动平衡装置用于降低旋转台在旋转过程中产生的振动；所述主框架与基础框架之间设有减震装置；所述减震装置用于降低主框架产生的振动；本发明通过在旋转空腔内设置动平衡装置，实现了降低旋转台在旋转过程中产生的振动；通过在主框架与基础框架之间设置减震装置，实现降低主框架产生的振动。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 半导体 硅晶圆 旋转 光刻 | ||
【主权项】：
1.一种半导体硅晶圆旋转光刻机，包括主框架(1)、移动支架(2)、曝光装置(3)、旋转台(4)、动平衡装置(5)、减震装置(6)、基础框架(7)，所述主框架(1)用于承载旋转台(4)；所述主框架(1)内部设有旋转台(4)，主框架(1)上方滑动安装移动支架(2)；所述移动支架(2)中部下方固定连接曝光装置(3)；所述曝光装置(3)用于将曝光图形成像于硅晶圆(8)上，曝光装置(3)包括透镜(31)、照明装置(32)；所述照明装置(32)上端固定连接在移动支架(2)底部，照明装置(32)下端与透镜(31)上端固定连接；所述透镜(31)下方设有旋转台(4)；所述旋转台(4)通过电机安装在主框架(1)底板上；所述旋转台(4)内部设置旋转空腔(41)，旋转空腔(41)内设有动平衡装置(5)；所述动平衡装置(5)用于降低旋转台(4)在旋转过程中产生的振动；所述主框架(1)与基础框架(7)之间设有减震装置(6)；所述减震装置(6)用于降低主框架(1)产生的振动；其特征在于：所述动平衡装置(5)包括旋转主轴(51)、中心转盘(52)、弹簧、平衡块(53)，所述旋转主轴(51)转动安装在旋转台(4)的旋转轴上，旋转主轴(51)受电机驱动转动；所述旋转主轴(51)上端固定连接中心转盘(52)的下端面；所述中心转盘(52)圆柱面上通过弹簧连接一组平衡块(53)。
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