[发明专利]坏点库的建立方法和建立系统在审
| 申请号： | 201810542700.1 | 申请日： | 2018-05-30 |
| 公开（公告）号： | CN108829948A | 公开（公告）日： | 2018-11-16 |
| 发明（设计）人： | 陈颖;韦亚一;粟雅娟 | 申请（专利权）人： | 中国科学院微电子研究所;中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 |
| 主分类号： | G06F17/50 | 分类号： | G06F17/50 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人： | 韩建伟;霍文娟 |
| 地址： | 100029 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本申请提供了一种坏点库的建立方法和建立系统。该建立方法包括：步骤S1，规则收集，规则包括版图设计规则；步骤S2，根据收集到的规则，生成随机版图；步骤S3，在随机版图中选取版图区域，并对版图区域进行光学仿真，得到限制工艺窗口的第一坏点位置，将得到的第一坏点位置定义为基本坏点；步骤S4，在随机版图中找到与基本坏点具有相同特征参数的第二坏点位置，第二坏点位置的集合为坏点库。该建立方法省去了大规模光学仿真的步骤，大大缩减了研发时间，同时，还可以对新节点研发初期的设计规则优化提供一定的指导作用，进一步推进研发进度，降低研发成本。 | ||
| 搜索关键词： | 坏点 坏点位置 研发 版图区域 建立系统 版图设计规则 工艺窗口 光学仿真 规则收集 设计规则 特征参数 新节点 集合 进度 申请 优化 | ||
【主权项】：
1.一种坏点库的建立方法，其特征在于，所述建立方法包括：步骤S1，规则收集，所述规则包括版图设计规则；步骤S2，根据收集到的所述规则，生成随机版图；步骤S3，在所述随机版图中选取版图区域，并对所述版图区域进行光学仿真，得到限制工艺窗口的第一坏点位置，将得到的所述第一坏点位置定义为基本坏点；以及步骤S4，在所述随机版图中找到与所述基本坏点具有相同特征参数的第二坏点位置，所述第二坏点位置的集合为坏点库。
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