[发明专利]一种光电化学冶金制备二氧化锰的方法有效
申请号: | 201810543402.4 | 申请日: | 2018-05-31 |
公开(公告)号: | CN108707920B | 公开(公告)日: | 2019-12-03 |
发明(设计)人: | 刘芳洋;肖涵睿;蒋良兴;赖延清;肖劲;李劼;刘业翔 | 申请(专利权)人: | 中南大学 |
主分类号: | C25B1/21 | 分类号: | C25B1/21 |
代理公司: | 43207 长沙智德知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人: | 陈铭浩<国际申请>=<国际公布>=<进入 |
地址: | 410083 湖南*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | 本发明公开了一种光电化学冶金制备二氧化锰的方法,该方法包括以下步骤:A,制备包含有锰盐和酸的电解液,其中锰盐和酸的阴离子相同,阴离子包括硫酸根离子或氯离子中的任一种;B,将电解液、阴极和阳极放入电解槽中,在阳极上施加光照,采用恒电流电解沉积二氧化锰,其中,光照中含有能量大于或等于0.58eV的光子;C,将二氧化锰从阳极上剥落,并将剥落后的二氧化锰依次进行粉碎、洗涤、中和以及干燥,得到二氧化锰产品。本发明提出的技术方案降低了电极欧姆压降、反应阻抗、槽电压和电解温度,提升了可采用的阳极电流密度,且槽电压不会因此升高,进而提升沉积速率和产能,降低能耗。 | ||
搜索关键词: | 二氧化锰 阳极 制备 光电化学 槽电压 电解液 阴离子 沉积 锰盐 光照 阴极 恒电流电解 硫酸根离子 冶金 反应阻抗 电极 电解槽 氯离子 速率和 产能 放入 光子 压降 剥落 电解 洗涤 升高 施加 中和 | ||
【主权项】:
1.一种光电化学冶金制备二氧化锰的方法,其特征在于,包括以下步骤:/nA,制备包含有锰盐和酸的电解液,其中锰盐和酸的阴离子相同,阴离子包括硫酸根离子或氯离子中的任一种;/nB,将电解液、阴极和阳极放入电解槽中,在阳极上施加光照,采用恒电流电解沉积二氧化锰,其中,光照中含有能量大于或等于0.58eV的光子;/nC,将二氧化锰从阳极上剥落,并将剥落后的二氧化锰依次进行粉碎、洗涤、中和以及干燥,得到二氧化锰产品;/n电解过程前期光照强度采用10~1000mW/cm2,后期光照强度采用1000~3000mW/cm2;所述步骤B中,电解温度为20~95℃,阳极电流密度为50~500A/m2,电解沉积时间为10~360h。/n
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