[发明专利]一种用于制备分子筛膜的静电自组装晶种涂覆方法在审
| 申请号： | 201810547361.6 | 申请日： | 2018-05-31 |
| 公开（公告）号： | CN108744997A | 公开（公告）日： | 2018-11-06 |
| 发明（设计）人： | 顾学红;高冰;高雪超;张玉亭 | 申请（专利权）人： | 南京工业大学 |
| 主分类号： | B01D71/02 | 分类号： | B01D71/02;B01D67/00;B05D3/00 |
| 代理公司： | 南京正联知识产权代理有限公司 32243 | 代理人： | 邓唯 |
| 地址： | 210009 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种用于制备分子筛膜的静电自组装晶种涂覆方法。本发明提供了用于在载体上制备分子筛膜的高效晶种涂覆方法。采用阳离子聚丙烯酰胺（CPAM）修饰载体表面，改变载体表面Zeta电位，然后将处理后的载体利用浸渍提拉的方法浸泡在混合晶种液中，通过晶种颗粒与修饰后载体之间的静电相互作用提高晶种的涂覆效果，最后采用水热合成的方法制备分子筛膜。本方法适用于二次生长法制备分子筛膜过程中，孔径为0.6～3.0μm的载体表面晶种涂覆过程，不但克服了晶种在载体表面附着不均匀的问题，而且成本低廉，操作简单，适合规模化应用。 | ||
| 搜索关键词： | 晶种 分子筛膜 制备 涂覆 载体表面 静电自组装 阳离子聚丙烯酰胺 二次生长法 浸渍提拉 晶种颗粒 水热合成 涂覆过程 修饰载体 静电 不均匀 规模化 晶种液 附着 修饰 浸泡 应用 | ||
【主权项】：
1.一种分子筛膜，包括载体以及载体表面的晶种，载体是无机材质，其特征在于，晶种在载体表面通过阳离子聚丙烯酰胺的静电作用进行负载。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于南京工业大学，未经南京工业大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201810547361.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
