[发明专利]掩膜板和掩膜板的制造方法有效
| 申请号： | 201810548269.1 | 申请日： | 2018-05-31 |
| 公开（公告）号： | CN108385058B | 公开（公告）日： | 2020-06-09 |
| 发明（设计）人： | 熊腾青;李如;乔永康;潘晟恺;刘杰;杨凯;于剑伟 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24 |
| 代理公司： | 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 | 代理人： | 杨广宇 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种掩膜板和掩膜板的制造方法，属于蒸镀技术领域。掩膜板包括：掩膜，掩膜包括掩膜基底以及设置在掩膜基底上的镀层，镀层的热膨胀系数大于掩膜基底的热膨胀系数；其中，掩膜在蒸镀温度下为平整状态，掩膜中的镀层在蒸镀温度下由凸起状态膨胀为平整状态。本发明通过在掩膜上形成热膨胀系数较大的镀层，且使掩膜在蒸镀温度下为平整状态，这样在常温下掩膜就会因为镀层的收缩而呈弯曲状态，将包括该掩膜的掩膜板设置在在蒸镀基板上时，掩膜的边缘不会与待蒸镀基板接触，避免了对待蒸镀基板的损伤。解决了相关技术中掩膜板可能损伤待蒸镀基板的问题。达到了能够避免掩膜板损伤待蒸镀基板的效果。 | ||
| 搜索关键词： | 掩膜板 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种掩膜板，其特征在于，所述掩膜板包括：掩膜，所述掩膜包括掩膜基底以及设置在所述掩膜基底上的镀层，所述镀层的热膨胀系数大于所述掩膜基底的热膨胀系数；其中，所述掩膜在蒸镀温度下为平整状态，所述掩膜中的镀层在所述蒸镀温度下由凸起状态膨胀为所述平整状态，所述蒸镀温度为蒸镀腔室中，加热蒸镀材料时所述掩膜板所在区域的温度。
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