[发明专利]一种硅片自动清洗设备

摘要

本发明提供一种硅片自动清洗设备，包括基座，所述基座内部底端设有槽体，所述槽体上设有第一清洗槽、第二清洗槽、第三清洗槽，所述第一清洗槽、第二清洗槽与第三清洗槽上均设有清洗机构，所述第一清洗槽、第二清洗槽与第三清洗槽后方均设有驱动机构，所述第一清洗槽、第二清洗槽与第三清洗槽底部均设有循环水管，所述槽体正上方设有2根导轨，所述2根导轨上均设有伸缩式手臂，所述基座正面上设有控制面板，本发明通过设置凸出块与弹簧，使得装有硅片的卡塞在清洗剂中抖动，增加了硅片与清洗剂的摩擦，较少了清洗时间，提高了清洗效率。

主权项

1.一种硅片自动清洗设备，包括基座（1），其特征在于：所述基座（1）内部底端设有槽体（2），所述槽体（2）上设有第一清洗槽（3）、第二清洗槽（4）、第三清洗槽（5），所述第一清洗槽（3）、第二清洗槽（4）与第三清洗槽（5）上均设有清洗机构（6），所述第一清洗槽（3）、第二清洗槽（4）与第三清洗槽（5）后方均设有驱动机构（7），所述第一清洗槽（3）、第二清洗槽（4）与第三清洗槽（5）底部均设有循环水管（8），所述槽体（2）正上方设有2根导轨（9），所述导轨（9）上均设有伸缩式手臂（10），所述基座（1）正面上设有控制面板（11）。