[发明专利]片状Cu2ZnSnS4薄膜的制备方法有效
申请号: | 201810554306.X | 申请日: | 2018-06-01 |
公开(公告)号: | CN108689611B | 公开(公告)日: | 2021-07-06 |
发明(设计)人: | 曹萌;别佳瑛;尚艺;靖佳贺;吴创生;尧科峰;沈悦;王林军 | 申请(专利权)人: | 上海大学 |
主分类号: | C03C17/34 | 分类号: | C03C17/34 |
代理公司: | 上海上大专利事务所(普通合伙) 31205 | 代理人: | 顾勇华 |
地址: | 200444*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: |
本发明涉及一种片状C |
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搜索关键词: | 片状 cu2znsns4 薄膜 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.片状C2ZnSnS4薄膜的制备方法,其特征在于该方法的工艺步骤如下:a. 首先通过化学浴法将1‑4mmol二水合氯化亚锡、1.5‑8mmol硫代乙酰胺加入到200ml去离子水的瓶子中,调节溶液pH=0.2‑1.0,将洗干净FTO用夹子夹着垂直紧靠杯壁放入溶液中,然后将溶液放入到恒温磁力搅拌器中,温度设为80‑90℃,反应时间0.5‑2小时,转速保持600转/min,之后将FTO取出,得到SnS纳米片薄膜;然后用去离子水清洗干净,放入烘箱烘干;b. 之后将0.8‑1.2mmol五水合硫酸铜、0.025‑0.04mmol 氯化锌、4‑6mmol硫脲和生长好的SnS和15ml去离子水放入到一个40ml的反应釜中,在180℃反应10‑12h,将反应釜移出加热装置使反应物冷却,用去离子水冲洗干净,烘干;c. 再将步骤b产物在500℃通有氮气的退火炉中退火2h即得到Cu2ZnSnS4片状薄膜。
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