[发明专利]临界尺寸量测方法及用于量测临界尺寸的图像处理装置有效
| 申请号： | 201810554313.X | 申请日： | 2018-06-01 |
| 公开（公告）号： | CN110553581B | 公开（公告）日： | 2022-01-14 |
| 发明（设计）人： | 黄靖雅;洪佐桦 | 申请（专利权）人： | 华邦电子股份有限公司 |
| 主分类号： | G01B11/00 | 分类号： | G01B11/00;G06T5/00;G06T7/13 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 王涛 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明提供一种临界尺寸量测方法及用于量测临界尺寸的图像处理装置。该临界尺寸量测方法包括：接收一半导体晶圆的一临界尺寸扫瞄电子显微镜图像；对该临界尺寸扫瞄电子显微镜图像进行一图像锐化处理及一图像去噪声处理以产生一第一图像；对该第一图像进行一边缘检测处理以产生一第二图像；对该第二图像进行一连通成分标示处理以产生一输出图像；以及依据该输出图像以计算该半导体晶圆的一临界尺寸信息表。本发明可快速地利用图像处理以去除临界尺寸扫瞄电子显微镜图像的噪声，并标示电路布局中的各元件的物件轮廓，藉以分析出在半导体晶圆中的不同位置的临界尺寸。 | ||
| 搜索关键词： | 临界 尺寸 方法 用于 图像 处理 装置 | ||
【主权项】：
1.一种临界尺寸量测方法，其特征在于，该方法包括：/n接收一半导体晶圆的一临界尺寸扫瞄电子显微镜图像；/n对该临界尺寸扫瞄电子显微镜图像进行一图像锐化处理及一图像去噪声处理以产生一第一图像；/n对该第一图像进行一边缘检测处理以产生一第二图像；/n对该第二图像进行一连通成分标示处理以产生一输出图像；以及/n依据该输出图像以计算该半导体晶圆的一临界尺寸信息表。/n
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