[发明专利]用于形成自对准接触物的扩大牺牲栅极覆盖物

摘要

本发明涉及用于形成自对准接触物的扩大牺牲栅极覆盖物，其揭露形成装置结构的牺牲栅极覆盖物及自对准接触物的方法。在第一侧间隙壁与第二侧间隙壁之间设置栅极电极。凹入该栅极电极的顶部表面，以在该凹入栅极电极的该顶部表面之上开出空间，其部分暴露出该第一及第二侧间隙壁。移除设置于该凹入栅极电极的该顶部表面之上的该第一及第二侧间隙壁的相应部分，以增加该空间的宽度。在该加宽空间中形成牺牲覆盖物。

主权项

1.一种方法，包括：形成第一侧间隙壁、第二侧间隙壁以及设置于该第一侧间隙壁与该第二侧间隙壁之间的栅极电极；凹入该栅极电极的顶部表面，以形成凹入栅极电极并在该栅极电极的该顶部表面之上开出空间，该空间部分暴露出该第一侧间隙壁及该第二侧间隙壁；移除设置于该凹入栅极电极的该顶部表面之上的该第一侧间隙壁的第一片段及该第二侧间隙壁的第一片段，以增加该空间的宽度而形成加宽空间；以及在该加宽空间中形成第一牺牲覆盖物。