[发明专利]一种等离子蚀刻的喷头异常监测系统及方法有效
| 申请号： | 201810561065.1 | 申请日： | 2018-06-04 |
| 公开（公告）号： | CN108520852B | 公开（公告）日： | 2023-06-27 |
| 发明（设计）人： | 请求不公布姓名 | 申请（专利权）人： | 长鑫存储技术有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 | 代理人： | 王华英 |
| 地址： | 230601 安徽省合肥市*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明教示一种等离子蚀刻的喷头异常监测系统及方法。该等离子蚀刻的喷头异常监测方法包括，将监控片固定于等离子体刻蚀机的下电极组件上，并确定所述监控片上的复数个监测点的位置；经喷头流出聚合物反应测试的沉积气体，所述沉积气体沉积在所述监控片上，形成聚合物；分别获得所述监控片中各所述监测点处的所述聚合物的厚度，并将所述聚合物的厚度数据之上传到控制中心，根据所述聚合物的厚度数据来判断是否达到停机条件；当达到停机条件，所述控制中心控制等离子刻蚀机即时停机。利用本发明的技术方案，能够准确的监测喷头异常状况，并根据监测结果实现对等离子体刻蚀机台的控制，实现即时停机，从而降低晶圆的报废，提高产品良率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 等离子 蚀刻 喷头 异常 监测 系统 方法 | ||
【主权项】：
1.一种等离子蚀刻的喷头异常监测方法，其特征在于，包括：将监控片固定于等离子体刻蚀机的下电极组件上，并确定所述监控片上的复数个监测点的位置；经喷头流出聚合物反应测试的沉积气体，所述沉积气体沉积在所述监控片上，以形成聚合物；分别获得所述监控片中各所述监测点处的所述聚合物的厚度，并将所述聚合物的厚度数据上传到控制中心，根据所述聚合物的厚度数据来判断是否达到停机条件；当达到停机条件，所述控制中心控制所述等离子刻蚀机即时停机。
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