[发明专利]一种含有石墨烯的苝酰亚胺及其衍生物的光电材料制备方法在审
| 申请号： | 201810562941.2 | 申请日： | 2018-06-01 |
| 公开（公告）号： | CN108865115A | 公开（公告）日： | 2018-11-23 |
| 发明（设计）人： | 林前锋 | 申请（专利权）人： | 湖南国盛石墨科技有限公司 |
| 主分类号： | C09K11/06 | 分类号： | C09K11/06;C09K11/65;H01L51/42;H01L51/46;H01L51/50;H01L51/54 |
| 代理公司： | 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 | 代理人： | 任重;单香杰 |
| 地址： | 423000 湖南省郴州市苏仙区白*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种含有石墨烯的苝酰亚胺及其衍生物的光电材料制备方法。包括以下步骤：A．将苝酰亚胺或其衍生物与石墨烯共混，将上述混合物加热溶解在高沸点溶剂中形成溶液W；B．惰性气体保护下和加热下，将溶液W趁热过滤，滤液避光保存；C．向滤液中加入添加剂，保存时间≤24h；D．将滤液在真空条件下蒸馏去除溶剂，得到苝酰亚胺或其衍生物与石墨烯的混合物。通过将石墨烯以及添加剂加入到苝酰亚胺或其衍生物中，所得到的共混材料成膜后，较之前的未添加石墨烯及添加剂的苝酰亚胺成膜后所得到的电子迁移率有明显提升。 | ||
| 搜索关键词： | 苝酰亚胺 石墨烯 添加剂 光电材料 混合物 成膜 制备 惰性气体保护 蒸馏去除溶剂 电子迁移率 高沸点溶剂 避光保存 趁热过滤 共混材料 加热溶解 真空条件 共混 加热 保存 | ||
【主权项】：
1.一种含有石墨烯的苝酰亚胺及其衍生物的光电材料制备方法，其特征在于，包括如下步骤：A.将苝酰亚胺或其衍生物与石墨烯共混，将上述混合物加热溶解在高沸点溶剂中形成溶液W；B.惰性气体保护下和加热下，将溶液W趁热过滤，滤液避光保存；C.向滤液中加入添加剂，保存时间≤24h；D.将滤液在真空条件下蒸馏去除溶剂，得到苝酰亚胺或其衍生物与石墨烯的混合物；其中，苝酰亚胺及其衍生物的分子结构式为：![]()
其中，R1、R2为C1‑C22的烷基或者C1‑C22的烷氧基，所述烷基或者烷氧基为直链、支链或者环状，其中一个或多个碳原子可以被氧原子、烯基、炔基、芳基、羟基、氨基、羰基、羧基、酯基、氰基、硝基取代，氢原子可被卤素原子、氧原子、烯基、炔基、芳基、羟基、氨基、羰基、羧基、酯基、氰基或硝基取代；X1‑X4为氢原子、卤素原子、氧原子、烯基、炔基、芳基、羟基、氨基、羰基、羧基、酯基、氰基或硝基；其中，所述苝酰亚胺和石墨烯的质量比为1：0.01‑0.1；所述添加剂为二碘辛烷或氯萘；所述添加剂在溶液W滤液中的占比为0.1‑1wt％。
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