[发明专利]一种均匀有序的铂立方体或多面体纳米颗粒阵列的制备方法有效

专利信息
申请号: 201810564122.1 申请日: 2018-06-04
公开(公告)号: CN110548878B 公开(公告)日: 2022-04-05
发明(设计)人: 闫常峰;甘源;王志达;郭常青;史言;谭弘毅;卢卓信 申请(专利权)人: 中国科学院广州能源研究所
主分类号: B22F9/24 分类号: B22F9/24;B82Y40/00
代理公司: 广州科粤专利商标代理有限公司 44001 代理人: 蒋欢妹;莫瑶江
地址: 510640 广*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种均匀有序的铂立方体或多面体纳米颗粒阵列的制备方法,基于双嵌段共聚物自组装模板法的胶团阵列等离子刻蚀后所得孔洞阵列为模板,利用敞口的孔洞式阵列模板封装铂前驱体与离子型封端剂,使嵌段共聚物自组装模板法兼容控制铂纳米颗粒形状的封端剂,获得非球形或线形的等传统嵌段模板法难以获得的特定构型铂纳米颗粒,解决了双嵌段共聚物自组装的模板与有机封端剂无法兼容的问题,解决了传统嵌段模板法难以获得的特定构型铂纳米颗粒的问题,且保证了立方体或多面体铂纳米颗粒大规模的均一性及高产率,解决了高均匀高重复性特殊形状铂纳米颗粒制备技术的技术瓶颈,有助于实现特殊形状铂纳米颗粒阵列在催化、光电等方面的高效应用。
搜索关键词: 一种 均匀 有序 立方体 多面体 纳米 颗粒 阵列 制备 方法
【主权项】:
1.一种均匀有序的铂立方体或多面体纳米颗粒阵列的制备方法,其特征在于,该方法包括以下步骤:/n(1)以旋涂方式将分散有双嵌段共聚物的有机溶液均匀铺展至载体表面,获得负载有双嵌段共聚物自组装的有序球形胶团阵列的载体,然后放入等离子清洗机中进行等离子刻蚀,将阵列中每个球形胶团均匀刻蚀至敞口,直至在载体上获得有序孔洞式阵列模板,得到负载有有序孔洞式阵列模板的载体;/n(2)在步骤(1)得到的负载有有序孔洞式阵列模板的载体的表面均匀旋涂含有盐酸封端剂的氯铂酸铂前驱体水溶液,填充模板孔洞,得到表面载有填充有盐酸/氯铂酸的有序孔洞式阵列模板的载体;/n(3)将步骤(2)得到的表面载有填充有盐酸/氯铂酸的有序孔洞式阵列模板的载体放入等离子清洗机中通过等离子清洗还原至有机物完全去除,获得均匀有序的铂立方体或多面体纳米颗粒阵列。/n
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