[发明专利]非对称范德华异质结器件、其制备方法及用途有效

专利信息
申请号: 201810564781.5 申请日: 2018-06-04
公开(公告)号: CN109004016B 公开(公告)日: 2021-08-17
发明(设计)人: 何军;程瑞清;王峰 申请(专利权)人: 国家纳米科学中心
主分类号: H01L29/06 分类号: H01L29/06;H01L29/10;H01L29/26;H01L29/772;H01L31/04;H01L31/112;H01L27/105
代理公司: 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 代理人: 王文君;王文红
地址: 100190 北*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供一种非对称范德华异质结器件,包括从下到上依次设置的石墨烯纳米片、六方氮化硼纳米片、二硫化钼纳米片、二碲化钼纳米片;所述石墨烯纳米片和六方氮化硼纳米片、二硫化钼纳米片、二碲化钼纳米片有重叠的区域;二硫化钼纳米片面积大于所述二碲化钼纳米片,二硫化钼纳米片有部分区域不与二碲化钼纳米片重叠。本发明还提供所述非对称范德华异质结器件的制备和应用。本发明的非对称范德华异质结器件可以实现超高性能与多种功能的有机统一。工作为晶体管时,器件展现出超高电流开关比,超小亚阈值摆幅以及明显的负跨导行为。工作为整流器时,器件展现出超高电流整流比。工作为存储器时,器件展现出超高的擦除/写入电流比和电流整流比。
搜索关键词: 对称 范德华异质结 器件 制备 方法 用途
【主权项】:
1.一种非对称范德华异质结器件,其特征在于,包括从下到上依次设置的石墨烯纳米片、六方氮化硼纳米片、二硫化钼纳米片、二碲化钼纳米片;所述石墨烯纳米片和六方氮化硼纳米片、二硫化钼纳米片、二碲化钼纳米片有重叠的区域,且所述石墨烯纳米片面积大于所述六方氮化硼纳米片;二硫化钼纳米片面积大于所述二碲化钼纳米片,二硫化钼纳米片有部分区域不与二碲化钼纳米片重叠但与石墨烯纳米片和六方氮化硼纳米片重叠。
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