[发明专利]光学测量装置及光学测量方法有效
| 申请号： | 201810568763.4 | 申请日： | 2018-06-05 |
| 公开（公告）号： | CN109405752B | 公开（公告）日： | 2021-08-27 |
| 发明（设计）人： | 井上展幸;田口都一 | 申请（专利权）人： | 大塚电子株式会社 |
| 主分类号： | G01B11/06 | 分类号： | G01B11/06;G01N21/45 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 吕琳;朴秀玉 |
| 地址： | 日本大阪*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种光学测量装置，包括：照射光学系统，向测量对象直线状地照射具有规定的波长范围的测量光；测量光学系统，接受通过测量光的照射而从测量对象产生的作为透射光或反射光的直线状测量干涉光；及处理装置。测量光学系统包括：衍射光栅，将测量干涉光向与该测量干涉光的长尺寸方向正交的方向波长扩展；以及摄像部，接受由衍射光栅波长扩展了的测量干涉光并输出二维图像。处理装置包括：第一计算单元，与二维图像上的与被照射测量光的测量对象的各测量点对应的区域关联地，计算与从各测量点到测量光学系统的入射角对应的校正因数；及第二计算单元，对二维图像中包含的各像素值使用对应的校正因数，并在此基础上计算测量对象的光学特性。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 测量 装置 测量方法 | ||
【主权项】：
1.一种光学测量装置，具备：照射光学系统，向测量对象直线状地照射具有规定的波长范围的测量光；测量光学系统，接受直线状的测量干涉光，所述测量干涉光是通过所述测量光的照射而从所述测量对象产生的透射光或反射光；以及处理装置，所述测量光学系统包括：衍射光栅，将所述测量干涉光向与该测量干涉光的长尺寸方向正交的方向进行波长扩展；以及摄像部，接受由所述衍射光栅进行了波长扩展的测量干涉光并输出二维图像，所述处理装置具备：第一计算单元，与所述二维图像上的与被照射所述测量光的所述测量对象的各测量点对应的区域关联地计算校正因数，所述校正因数与从各测量点到所述测量光学系统的入射角对应；以及第二计算单元，对所述二维图像中包含的各像素值，使用对应的校正因数，并在此基础上计算所述测量对象的光学特性。
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