[发明专利]一种提高曝光产能直写光刻机构及其曝光方法

摘要

本发明公开了一种提高曝光产能直写光刻机构及其曝光方法，能够在不增加光刻机的成本基础上有效的提升曝光所用的时间，可同时完成多于一片板子，两片板子甚至N片板子同时上下板，对准和曝光完成，有效的缩短了基板的曝光时间，提高了直写曝光机的产能，有效的提高了客户生产的产量，同时也能很好的满足曝光图形的质量。

主权项

1.一种提高曝光产能直写光刻机构，其特征在于，包括多轴运动平台、基板台面、曝光系统、对位系统、底座和龙门机构，所述底座和龙门机构连接，所述底座上设有多轴运动平台，所述多轴运动平台包括y轴运动组件、x轴运动组件及z轴和θ轴组件，所述y轴运动组件固定在底座上，所述x轴运动组件固定在y轴运动组件上，所述z轴和θ轴组件固定在x轴运动组件上，所述基板台面承载放置2片或2片以上曝光基板且固定在z轴和θ轴组件上，所述曝光系统和对位系统分别固定在龙门机构上。