[发明专利]半导体存储器件及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201810573020.6 申请日: 2018-06-06
公开(公告)号: CN109037223A 公开(公告)日: 2018-12-18
发明(设计)人: 黄盛珉;任峻成 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: H01L27/11551 分类号: H01L27/11551
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 王新华
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 公开了一种半导体存储器件及其制造方法。该半导体存储器件包括单元阵列区域和外围电路区域。该单元阵列区域包括多个电极结构和多个垂直结构,该多个电极结构包括依次堆叠在体导电层上的多个电极,该多个垂直结构穿透电极结构并且连接到体导电层。外围电路区域包括剩余基板和在剩余基板上的外围晶体管。剩余基板具有比体导电层的顶表面高的顶表面。
搜索关键词: 半导体存储器件 剩余基板 体导电层 单元阵列区域 外围电路区域 垂直结构 电极结构 顶表面 外围晶体管 穿透电极 电极 堆叠 制造
【主权项】:
1.一种半导体存储器件,包括:单元阵列区域,连接到外围电路区域,所述单元阵列区域包括在体导电层上的多个电极结构和多个垂直结构,所述多个电极结构每个包括依次层叠在所述体导电层上的多个电极,所述多个垂直结构穿透所述多个电极结构并且连接到所述体导电层,所述外围电路区域包括在剩余基板上的外围晶体管,并且所述剩余基板的顶表面高于所述体导电层的顶表面。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星电子株式会社,未经三星电子株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201810573020.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top