[发明专利]一种光学薄膜保护膜及其制备方法在审
| 申请号： | 201810575615.5 | 申请日： | 2018-06-06 |
| 公开（公告）号： | CN108728006A | 公开（公告）日： | 2018-11-02 |
| 发明（设计）人： | 费志豪;王陈 | 申请（专利权）人： | 芜湖夏鑫新型材料科技有限公司 |
| 主分类号： | C09J7/29 | 分类号： | C09J7/29;C09J7/30;C09J175/04;C09J11/06;C08G18/62;C08G18/73;C08G18/75;C08G18/76;C08G18/34;C08L23/06;C08L33/12;C08K3/36 |
| 代理公司： | 芜湖安汇知识产权代理有限公司 34107 | 代理人： | 尹婷婷 |
| 地址： | 241100 安徽省芜湖市*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光学薄膜保护膜及其制备方法，所述保护膜包括PE基膜层和胶层，所述胶层由胶水涂布在PE基膜层的表面经烘干而形成，所述PE基膜层包括A层和B层，A层为PE层，B层为添加了有机或无机粒子的PE层，A层和B层通过共挤方式形成PE基膜层；所述胶水包括以下重量份的原料：丙烯酸酯类树脂26～36份；乙酸乙酯60～70份；异氰酸酯类固化剂3～6份；抗静电剂0.5～1份。本发明通过对PE基膜层的层结构、胶水原料及配比以及制备工艺进行综合控制，得到了具有抗静电性能、耐刮性良好、剥离力合适、物残胶的保护膜，其阻抗值在107～1011Ω范围内，剥离力为1.6～2.5N/m。 | ||
| 搜索关键词： | 基膜层 保护膜 光学薄膜 胶水 剥离力 胶层 制备 异氰酸酯类固化剂 丙烯酸酯类树脂 抗静电性能 胶水涂布 抗静电剂 无机粒子 乙酸乙酯 制备工艺 综合控制 层结构 耐刮性 重量份 烘干 残胶 共挤 配比 阻抗 | ||
【主权项】：
1.一种光学薄膜保护膜，其特征在于，包括PE基膜层和胶层，所述胶层由胶水涂布在PE基膜层的表面经烘干而形成，所述胶水包括以下重量份的原料：丙烯酸酯类树脂26～36份；乙酸乙酯60～70份；异氰酸酯类固化剂3～6份；抗静电剂0.5～1份。
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