[发明专利]硅烷氨基化修饰的长余辉纳米材料及其制备方法、Lp-PLA2检测试剂及其制备方法有效
申请号: | 201810581645.7 | 申请日: | 2018-06-07 |
公开(公告)号: | CN108865110B | 公开(公告)日: | 2021-11-19 |
发明(设计)人: | 郭栋才;杜红丽;栾芳菲 | 申请(专利权)人: | 湖南大学 |
主分类号: | G01N33/533 | 分类号: | G01N33/533;C09K11/02;C09K11/62;G01N33/573 |
代理公司: | 常州智慧腾达专利代理事务所(普通合伙) 32328 | 代理人: | 曹军 |
地址: | 410000 湖*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: |
本发明涉及Lp‑PLA2因子的检测,具体涉及硅烷氨基化修饰的长余辉纳米材料及其制备方法、Lp‑PLA2检测试剂及其制备方法。本发明的硅烷氨基化修饰的长余辉纳米材料的制备方法,包括以下步骤:将Ga(NO |
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搜索关键词: | 硅烷 氨基化 修饰 余辉 纳米 材料 及其 制备 方法 lp pla2 检测 试剂 | ||
【主权项】:
1.硅烷氨基化修饰的长余辉纳米材料的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:1)将Ga(NO3)3溶液、Cr(NO3)3溶液、Eu(NO3)3溶液、Zn(NO3)2溶液、柠檬酸溶液混匀,调节pH为8~9,反应20~40min之后升温至70~80℃并反应2~4h,然后升温至90~100℃继续反应2~4h,干燥,之后于950~1050℃煅烧2~4h,得ZnGa2O4:Cr/Eu长余辉纳米材料;2)取步骤1)所得的ZnGa2O4:Cr/Eu长余辉纳米材料与NaOH溶液混合研磨20~40min,之后再加入NaOH溶液反应过夜,取上层悬浮液离心纯化,将离心后的沉淀分散于水中,得NPLNPs‑OH水溶液;3)取NPLNPs‑OH水溶液与DMF、氨丙基三乙氧基硅烷混合,反应过夜,离心,所得沉淀即为硅烷氨基化修饰的长余辉纳米材料。
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