[发明专利]一种硅太阳能电池及其制备方法有效
申请号: | 201810586050.0 | 申请日: | 2018-06-08 |
公开(公告)号: | CN108831955B | 公开(公告)日: | 2020-08-11 |
发明(设计)人: | 张军 | 申请(专利权)人: | 海门名驰工业设计有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L31/0216;H01L31/0352 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 226100 江苏省南*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明涉及一种硅太阳能电池及其制备方法,所述硅太阳能电池从下至上包括背面电极、背面钝化层、N型单晶硅片、硅纳米线阵列、上表面钝化层、Spiro‑OMeTAD/酞菁铜复合层、PEDOT:PSS层以及正面栅电极,所述PEDOT:PSS层含有镁元素,通过优化硅太阳能电池结构以及各层的具体工艺参数,使得本发明的硅太阳能电池具有优异的光电转换效率。 | ||
搜索关键词: | 一种 太阳能电池 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种硅太阳能电池的制备方法,其特征在于:包括以下步骤:1)N型硅片的清洗;2)在N型硅片的表面制备硅纳米线阵列;3)对所述步骤2得到的N型硅片进行甲基化处理;4)接着在所述N型硅片的上表面旋涂含有乙基乙酰乙酸二异丙醇铝和异丙醇铪的有机溶液,并进行热处理,进一步钝化所述N型硅片的上表面;5)Spiro‑OMeTAD/酞菁铜复合层的制备:在所述步骤4得到的N型硅片的正面依次旋涂Spiro‑OMeTAD溶液、热蒸发酞菁铜、旋涂Spiro‑OMeTAD溶液、热蒸发酞菁铜、旋涂Spiro‑OMeTAD溶液、热蒸发酞菁铜,接着进行第一次退火处理,以形成所述Spiro‑OMeTAD/酞菁铜复合层;6)PEDOT:PSS层的制备:在PEDOT:PSS水溶液中添加一定量的氯化镁,以形成PEDOT:PSS混合溶液,在所述步骤5得到的N型硅片的正面旋涂所述PEDOT:PSS混合溶液,并进行第二次退火处理,以形成所述PEDOT:PSS改性层;7)在所述步骤6得到的N型硅片的背面利用原子层沉积法制备一氧化铝薄层,其中,沉积氧化铝的速率均为1‑2埃米/周期,沉积的周期数为3‑5;8)正面栅电极的制备;9)背面电极的制备。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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