[发明专利]扫描曝光装置以及扫描曝光方法有效

专利信息
申请号: 201810586865.9 申请日: 2014-05-02
公开(公告)号: CN108873613B 公开(公告)日: 2020-11-13
发明(设计)人: 加藤正纪 申请(专利权)人: 株式会社尼康
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G03F7/24;G03F9/00;G03F1/38
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 陈伟;闫剑平
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供一种扫描曝光装置,其使沿着以第一半径弯曲的圆周面保持有光罩图案的光罩保持筒以第一轴为中心旋转,并且使挠性的基板在沿着表面的扫描曝光方向上移动,来将光罩图案曝光在基板的表面上,并具有:朝向在光罩图案上在第一轴的方向上为细长的矩形状且在周向上具有规定宽度的照明区域照射照明光的照明光学系统;通过将来自光罩图案的光束投射至与照明区域对应的基板侧的投影区域使光罩图案的像以沿着在扫描曝光方向上弯曲的投影像面的方式成像的投影光学系统;和通过从与第一轴平行地配置的第二轴以第二半径弯曲成圆筒面状的外周面使基板弯曲来支承并以第二轴为中心进行旋转使基板沿着周向移动的基板支承筒。
搜索关键词: 扫描 曝光 装置 以及 方法
【主权项】:
1.一种扫描曝光装置,其使沿着从第一轴以第一半径弯曲的圆周面保持有光罩图案的光罩保持筒以所述第一轴为中心旋转,并且使挠性的基板在沿着表面的扫描曝光方向上移动,来将所述光罩图案曝光在所述基板的表面上,所述扫描曝光装置的特征在于,具有:照明光学系统,其朝向照明区域照射照明光,所述照明区域在所述光罩图案上以在所述第一轴的方向上被设定为细长的矩形状或长方形、并且在与所述扫描曝光方向对应的所述圆周面的周向上具有规定的宽度的方式设定;投影光学系统,其将来自出现在所述照明区域内的所述光罩图案的光束朝向与所述照明区域对应的所述基板侧的投影区域投射,由此,使所述光罩图案的像以沿着根据所述第一半径而在所述扫描曝光方向上弯曲的投影像面的方式成像;和基板支承筒,其通过从与所述第一轴平行地配置的第二轴以第二半径弯曲成圆筒面状的外周面使所述基板弯曲来支承所述基板,并且以所述第二轴为中心进行旋转,使所述基板沿着与所述扫描曝光方向对应的所述外周面的周向移动,以使弯曲的所述投影像面与弯曲的所述基板的表面在所述投影区域内的所述扫描曝光方向上分离的两处分别相交的方式,设定了所述光罩保持筒、所述基板支承筒、以及所述投影光学系统。
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