[发明专利]一种高精度小基高比立体测绘方法有效

专利信息
申请号: 201810589576.4 申请日: 2018-06-08
公开(公告)号: CN109029379B 公开(公告)日: 2020-10-20
发明(设计)人: 贺金平;刘雨晨;胡斌;赵海博;李瀛博;吴宪珉;阮宁娟;庄绪霞 申请(专利权)人: 北京空间机电研究所
主分类号: G01C11/08 分类号: G01C11/08
代理公司: 中国航天科技专利中心 11009 代理人: 张晓飞
地址: 100076 北京市丰*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明一种高精度小基高比立体测绘方法,步骤为:(1)一台相机在轨道高度为H,基线长度为B的两个位置对地进行拍摄,采集获取两幅图像;(2)对两幅图像分别进行基于频域晶胞的总变分正则化MTFC预处理;(3)计算得到校正畸变后的两幅图像;(4)计算得到两幅核线重采样后的图像;(5)计算得到一幅匹配后的视差图;(6)求得整幅图各个像素点处的相对高程值;(7)通过约束K个控制点计算的绝对高程与真实高程的误差平方和最小,来求解参考面高度,通过参考面高程加上各个点处的相对高程值,求得整幅图像各个点处的绝对高程。
搜索关键词: 一种 高精度 小基高 立体 测绘 方法
【主权项】:
1.一种高精度小基高比立体测绘方法,其特征在于步骤如下:1)相机在轨道高度为H,基线长度为B的两个位置对地进行拍摄,采集获取两幅被噪声污染后的退化图像,并建立所采集图像的退化模型其中,g为采集到的被噪声污染后的退化图像,为傅里叶逆变换算子,f为理想图像,n为噪声,H′为频域晶胞上的调制传递函数,*为卷积运算;2)对两幅被噪声污染后的退化图像分别进行基于频域晶胞的总变分正则化MTFC预处理,得到放大后的两幅复原图像f1、f2;3)计算得到校正内方位元素畸变后的两幅图像fcal1、fcal2;4)计算得到校正外方位元素畸变后的两幅图像fext1、fext2;5)采用基于解最优化的相位相关法对校正了外方位元素畸变的两幅图像fext1、fext2进行亚像素级匹配,得到匹配后的视差图V;6)利用视差图V计算得到整幅图各个像素点处的相对高程值ΔZ;ΔZ=(s(a1‑s(c1)))·GSD/(B/H)其中,s(a1)、s(c1)分别为a1、c1点视差值,a1、c1为的地面任意两点A和C在第一幅图像上的成像点,P为探测器像元大小,f′为光学系统焦距,为物方地面采样距离;7)通过约束K个控制点计算的绝对高程与真实高程的误差平方和最小,求解参考面高度h,即地面点C处的绝对高程为进而可计算整幅图上所有点处的绝对高程值。
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