[发明专利]一种纳米多层结构碳基薄膜的制备方法有效
| 申请号： | 201810590511.1 | 申请日： | 2018-06-09 |
| 公开（公告）号： | CN108611613B | 公开（公告）日： | 2020-06-30 |
| 发明（设计）人： | 李红轩;王伟奇;吉利;刘晓红;周惠娣;陈建敏 | 申请（专利权）人： | 中国科学院兰州化学物理研究所;兰州中科凯路润滑与防护技术有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/02;C23C14/16;C23C14/06 |
| 代理公司： | 兰州智和专利代理事务所(普通合伙) 62201 | 代理人： | 张英荷 |
| 地址： | 730000 甘*** | 国省代码： | 甘肃;62 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明公开了一种碳基纳米多层结构薄膜的制备方法，是采用直流反应磁控溅射沉积技术，以单金属靶为溅射靶材，甲烷‑氩气的混合气体为反应气源，利用自形成效应在碳基薄膜中自发形成碳富集层和金属富集层层层交替排列的纳米多层结构的碳基薄膜。本发明在直流电源的诱导下使反应气源产生离化，使甲烷和氩气产生具有电子、离子、自由基等各种基团的等离子体气氛，利用靶中毒效应控制金属晶粒的尺寸大小和取向，通过低能离子轰击生长表面，促进离子之间的扩散和迁移，在基底上自形成具有碳富集层和金属富集层交替排列的纳米多层碳基薄膜，增强了碳基薄膜的机械性能。本发明沉积过程简单，成膜均匀，重复性好等特点，极大地扩展了碳基薄膜潜在的应用前景。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 纳米 多层 结构 薄膜 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种纳米多层结构碳基薄膜的制备方法，是采用直流反应磁控溅射沉积技术，以单金属靶为溅射靶材，甲烷‑氩气的混合气体为反应气源，利用自形成效应在碳基薄膜中自发形成碳富集层和金属富集层层层交替排列的纳米多层结构的碳基薄膜。
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