[发明专利]晶片容器的气体供应装置有效
申请号: | 201810592471.4 | 申请日: | 2018-06-11 |
公开(公告)号: | CN109037099B | 公开(公告)日: | 2022-03-08 |
发明(设计)人: | 金弘烈 | 申请(专利权)人: | 责市特马股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L21/02;H01L21/673 |
代理公司: | 北京青松知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11384 | 代理人: | 郑青松 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明涉及对收容并运送晶片的晶片容器注入吹扫气体的晶片容器的气体供应装置。晶片容器的气体供应装置包括:载置台部,安装有晶片容器;气体出入部,对应于形成在晶片容器的气体入口以及气体出口的位置,并包括外壳与喷嘴,其中所述外壳结合于载置台部,所述喷嘴升降地插入于所述外壳内并且内部形成有吹扫气体出入的流路;第一驱动部,在与喷嘴连接的状态下升降,并且提供上升驱动力,以使所述喷嘴上升;第二驱动部,弹性支撑第一驱动部,进而向第一驱动部上升的方向提供弹力。据此,具有第一、第二驱动部来提供能够使喷嘴上升的充分的驱动力,进而在从喷嘴上部移除晶片容器时,使喷嘴顺利上升,进而可防止吹扫气体的浪费。 | ||
搜索关键词: | 晶片 容器 气体 供应 装置 | ||
【主权项】:
1.一种晶片容器的气体供应装置,作为对收容并运送晶片的晶片容器(100)注入吹扫气体的晶片容器的气体供应装置,其特征在于,包括:载置台部(10),安装有所述晶片容器(100);气体出入部(20),对应于形成在所述晶片容器(100)的气体入口以及气体出口的位置,并包括外壳(21)与喷嘴(22),其中所述外壳(21)结合于所述载置台部(10),所述喷嘴(22)升降地插入于所述外壳(21)内并且内部形成有吹扫气体出入的流路;第一驱动部(30),在与所述喷嘴(22)连接的状态下升降,并且提供上升驱动力,以使所述喷嘴(22)上升;第二驱动部(40),弹性支撑所述第一驱动部(30),进而向所述第一驱动部(30)上升的方向提供弹力。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造