[发明专利]一种高均匀性、抗辐射光学玻璃及制造工艺在审

专利信息
申请号: 201810596313.6 申请日: 2018-06-11
公开(公告)号: CN108715518A 公开(公告)日: 2018-10-30
发明(设计)人: 王衍根 申请(专利权)人: 郑州汉东科技有限公司
主分类号: C03C14/00 分类号: C03C14/00;C03C6/04;C03B5/235;C03B5/187;C03B5/193
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 450000 河南省郑州市金*** 国省代码: 河南;41
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摘要: 发明提供了一种高均匀性、抗辐射光学玻璃及制造工艺,以石英砂和无水硼砂为主要原料制成,采用物料分批加入结合空气的持续通入避免了原料混合不均匀,得到粗熔物后进行再次熔炼避免了熔化过程中局部熔化不均匀,保证产品的高均匀性;通过泡沫钛、纳米二氧化锡和纳米氧化铝的协同增效作用,获得了良好的抗辐射性能。
搜索关键词: 高均匀性 抗辐射 光学玻璃 制造工艺 不均匀 熔化 纳米二氧化锡 协同增效作用 纳米氧化铝 局部熔化 无水硼砂 原料混合 泡沫钛 石英砂 熔炼 保证
【主权项】:
1.一种高均匀性、抗辐射光学玻璃的制造工艺,其特征在于,具体步骤如下:(1)将石英砂、无水硼砂、五氧化二磷、氧化钠和泡沫钛加入混料机中混合得到预混料;(2)将预混料转移至熔化设备中进行熔化,边搅拌边加入纳米二氧化锡和纳米氧化铝,投料完成后持续通入空气并搅拌加热熔化,得到粗熔物;(3)粗熔物降温冷却粉碎后制成玻璃块,再次进行熔炼;(4)均化,成型,退火,得到光学玻璃。
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