[发明专利]抛光机有效
申请号: | 201810597517.1 | 申请日: | 2018-06-11 |
公开(公告)号: | CN109290951B | 公开(公告)日: | 2021-04-20 |
发明(设计)人: | 小寺利英 | 申请(专利权)人: | 京瓷工业工具株式会社 |
主分类号: | B24B47/12 | 分类号: | B24B47/12;B24B23/02 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 肖茂深 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供一种能够有效利用研磨力稳定这样的齿轮动作的优点、同时关于研磨垫的公转与自转的比率而能够实现自由度高的设计的抛光机。抛光机具备:以能够旋转的方式支承于齿轮箱(5a、5b)且由马达驱动而旋转的中间轴(14)、以及通过该中间轴的旋转而进行公转和自转的研磨垫(3),中间轴具备相对于该中间轴的旋转中心以规定的偏心量偏心的偏心支承面(20),具备内齿轮(24)的外圈构件(23)经由轴承(22)以能够旋转的方式支承于该偏心支承面,在齿轮箱与外圈构件之间设置有阻止外圈构件的自转而允许公转的偏心销(25),在与内齿轮啮合的外齿轮(34)安装有研磨垫。 | ||
搜索关键词: | 抛光机 | ||
【主权项】:
1.一种抛光机,其具备固定构件、以能够旋转的方式支承于该固定构件且被驱动源驱动而旋转的驱动轴、以及通过该驱动轴的旋转而进行公转和自转的研磨垫,其特征在于,驱动轴具备相对于该驱动轴的旋转中心以规定的偏心量偏心的偏心支承面,在该偏心支承面经由轴承以能够旋转的方式支承有具备内齿轮的外圈构件,在固定构件与外圈构件之间设置有阻止外圈构件的自转而允许公转的止转机构,在与内齿轮一同构成齿轮机构并进行自转的构成构件安装有研磨垫。
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