[发明专利]基于折射率调控薄膜的偏振无关反射式介质光栅在审
申请号: | 201810606015.0 | 申请日: | 2018-06-13 |
公开(公告)号: | CN108761610A | 公开(公告)日: | 2018-11-06 |
发明(设计)人: | 张明骁;马平;蒲云体;乔曌;卢忠文;吕亮;邱服民 | 申请(专利权)人: | 成都精密光学工程研究中心 |
主分类号: | G02B5/18 | 分类号: | G02B5/18 |
代理公司: | 成都九鼎天元知识产权代理有限公司 51214 | 代理人: | 韩雪 |
地址: | 610041 四*** | 国省代码: | 四川;51 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及一种基于折射率调控薄膜的偏振无关反射介质光栅,属于光学领域,所述光栅包括衬底1和光栅层4,并且衬底1上依次镀制有反射膜2、氧化物介质膜连接层3,并在光栅层刻蚀光栅槽结构;所述反射膜2为折射率调控多层介质薄膜,该折射率调控多层介质薄膜2包括高折射率材料薄膜2‑1和低折射率材料薄膜2‑2。本发明提供的基于折射率调控薄膜的偏振无关反射介质光栅的中心波长为1064纳米,在入射角度为‑1级利特罗角,在1050~1080纳米范围可以同时使TE、TM偏振方向上的‑1级衍射效率高于99%,波段内最高衍射效率高于99.5%,可以实现偏振无关入射光的高效率衍射。 | ||
搜索关键词: | 折射率 薄膜 偏振无关 调控 多层介质薄膜 光栅 介质光栅 衍射效率 反射膜 光栅层 衬底 反射 低折射率材料 高折射率材料 氧化物介质膜 反射式介质 光学领域 刻蚀光栅 利特罗角 中心波长 槽结构 高效率 连接层 入射光 入射角 波段 镀制 衍射 | ||
【主权项】:
1.一种基于折射率调控薄膜的偏振无关反射介质光栅,其特征在于,所述光栅包括衬底(1)和光栅层(4),并且衬底(1)上依次镀制有反射膜(2)、氧化物介质膜连接层(3),并在光栅层刻蚀光栅槽结构;所述反射膜(2)为折射率调控多层介质薄膜,该折射率调控多层介质薄膜(2)包括高折射率材料薄膜(2‑1)和低折射率材料薄膜(2‑2);所述低折射率材料薄膜(2‑2)的低折射率镀膜材料为SiO2,所述高折射率材料薄膜(2‑1)的高折射率材料为(Ta2O5)或(HfO2),所述氧化物介质膜连接层(3)的材料为SiO2。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于成都精密光学工程研究中心,未经成都精密光学工程研究中心许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201810606015.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种增强史密斯帕塞尔辐射的光栅
- 下一篇:正交柱镜光栅