[发明专利]一种图案化二维共轭微孔聚合物的制备方法和应用

摘要

本发明公开了一种图案化二维共轭微孔聚合物的制备方法和应用，属于聚合物半导体材料领域。该类二维共轭微孔聚合物是以咔唑为骨架，制备方法是先将咔唑衍生物旋涂或滴膜在平整的衬底上，然后在单体薄膜上添加掩膜版，并将其置于光源下开展光聚合反应。光照的单体发生交联反应，被掩膜版遮掩的单体没有发生反应。将光照后的单体薄膜在有机溶剂中浸泡，这样发生交联反应的薄膜生成聚合物，没有反应的单体被溶解，进而制备出大面积、图案化超薄二维共轭微孔聚合物薄膜。这是一种直接图案化的方法，避免了传统图案化方法中的刻蚀等步骤；图案化的薄膜不需要转移即可应用于器件中。

主权项

1.一种图案化二维共轭微孔聚合物的制备方法，其特征在于，具有如下反应步骤：将溶于有机溶剂中的咔唑衍生物置于衬底上，随后在覆盖有咔唑衍生物的衬底上放置掩膜版，并将其置在光源下进行反应，控制反应温度为‑78～160℃，反应1～3小时，反应结束后，移去掩膜版，清洗样品，得到生长在衬底上的图案化二维共轭微孔聚合物；所述有机溶剂为二氯甲烷、二氯乙烷、三氯甲烷、氯苯、甲苯；所述的咔唑衍生物具有选自通式(Ⅰ)、通式(Ⅱ)、通式(Ⅲ)的化学式的结构：其中：所述Ar1,Ar2为芳环共轭单元。