[发明专利]一种制备多周期多形貌的微纳米复合结构的装置和方法在审
| 申请号： | 201810621505.8 | 申请日： | 2018-06-15 |
| 公开（公告）号： | CN108681216A | 公开（公告）日： | 2018-10-19 |
| 发明（设计）人： | 金玉;刘昱玮;李志祥;王康 | 申请（专利权）人： | 华侨大学 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 厦门市首创君合专利事务所有限公司 35204 | 代理人： | 张松亭;张迪 |
| 地址： | 362000 福建省*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： |
本发明提供了一种制备多周期多形貌的微纳米复合结构的装置，包括：光刻曝光组件和激光干涉曝光组件；激光干涉曝光组件包括激光器、用于将激光器发射的激光分成两束激光的分光器件、以及用于将两束激光反射至光屏上同一点的反射器件；两束激光在反射至光屏上同一点时的夹角为 |
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| 搜索关键词： | 激光 形貌 光屏 微纳米复合结构 多周期 制备 反射器件 干涉条纹 激光干涉 曝光组件 反射 纳米复合结构 激光器发射 单一材料 分光器件 光刻曝光 激光反射 装置制备 激光器 夹角为 入射角 波长 干涉 | ||
【主权项】：
1.一种制备多周期多形貌的微纳米复合结构的装置，其特征在于包括：光刻曝光组件和激光干涉曝光组件；所述光刻曝光组件为光刻机；所述激光干涉曝光组件包括激光器、用于将激光器发射的激光分成两束激光的分光器件、以及用于将两束激光反射至光屏上同一点的反射器件；所述两束激光在反射至光屏上同一点时的夹角为![]()
则两束激光在光屏上干涉后产生的干涉条纹的周期T为：![]()
其，其中λ为激光的波长；调节所述反射器件与两束激光之间的入射角，改变两束激光在反射至光屏上同一点时的夹角![]()
改变干涉条纹的周期T。
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