[发明专利]监控清洁制程的系统在审
| 申请号： | 201810631887.2 | 申请日： | 2018-06-19 |
| 公开（公告）号： | CN109786210A | 公开（公告）日： | 2019-05-21 |
| 发明（设计）人： | 王啟维;曾于平;陈右儒;杨慧鸣;陈建伸;郭耿佑;谢雨轩;骆璇 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/02 | 分类号： | H01L21/02;B08B3/12;B08B3/08;B08B3/02 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国 |
| 地址： | 中国台湾新竹市*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种监控清洁制程系统包含：一清洁容器，包含用于接收清洁溶液的入口以及用于排出废弃溶液的出口；一粒子探测器，耦合至出口并配置用以量测与废弃溶液相关的多个粒子参数，以便对清洁制程提供即时监控；一泵浦，耦合至清洁容器并配置以提供吸力以通过清洁系统汲取废弃溶液；一控制器，耦合至泵浦和粒子探测器并配置以从粒子探测器接收这些粒子参数并控制清洁系统；以及一主机，耦合至控制器并配置以提供控制器至少一控制参数。 | ||
| 搜索关键词： | 耦合 粒子探测器 控制器 粒子参数 清洁容器 清洁系统 废弃 配置 泵浦 制程 清洁 监控 吸力 控制参数 清洁溶液 制程系统 量测 排出 主机 出口 汲取 统一 | ||
【主权项】：
1.一种监控清洁制程的系统，其特征在于，包含：一清洁容器，包含用于接收一清洁溶液的一入口以及用于排出一废弃溶液的一出口；一粒子探测器，耦合至该出口并配置用以量测与该废弃溶液相关的多个粒子参数，以便提供对该清洁制程的一即时监控；一泵浦，通过该出口耦合至该清洁容器并配置以提供吸力以通过该清洁系统汲取该废弃溶液；以及一控制器，耦合至该泵浦和该粒子探测器并配置以从该粒子探测器接收该些粒子参数并控制该清洁系统。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
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