[发明专利]清洁度指示系统和方法在审
| 申请号： | 201810641333.0 | 申请日： | 2018-06-20 |
| 公开（公告）号： | CN109125755A | 公开（公告）日： | 2019-01-04 |
| 发明（设计）人： | 洛韦林·T·迪提科;杰弗里·H·亨特;凯伦·L·希尔斯;杰米·J·奇尔德雷斯 | 申请（专利权）人： | 波音公司 |
| 主分类号： | A61L2/10 | 分类号： | A61L2/10;A61L2/28 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人： | 陈鹏;瞿艺 |
| 地址： | 美国伊*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本申请提供了一种指示部件的表面是清洁的清洁度指示系统和方法。清洁度指示系统和方法包括配置为位于部件的表面上的光致发光指示剂。光致发光指示剂配置为在紫外(UV)光消毒周期过程中暴露于UV光。光致发光指示剂由于暴露于UV光而发射光。光致发光指示剂通过由于暴露于UV光而发射光来指示部件的表面是清洁的。 | ||
| 搜索关键词： | 光致发光 指示剂 清洁度 指示系统 指示部件 发射光 暴露 消毒周期 清洁 配置 申请 | ||
【主权项】：
1.一种清洁度指示系统(112)，所述清洁度指示系统配置为指示部件(108)的表面(110)是清洁的，所述清洁度指示系统(112)包括：光致发光指示剂(114)，所述光致发光指示剂配置为位于所述部件(108)的所述表面(110)上，其中，所述光致发光指示剂(114)配置为在紫外光消毒周期过程中暴露于紫外光，其中，所述光致发光指示剂(114)由于暴露于紫外光而发射光，并且其中，所述光致发光指示剂(114)通过由于暴露于紫外光而发射光来指示所述部件(108)的所述表面(110)是清洁的。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于波音公司，未经波音公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201810641333.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种手术室护理消毒系统
- 下一篇：一种医疗用玻片的恒温消毒装置
