[发明专利]梁-岛-膜一体化谐振式压力传感器结构及制造方法有效

专利信息
申请号: 201810641917.8 申请日: 2018-06-21
公开(公告)号: CN108931321B 公开(公告)日: 2020-08-11
发明(设计)人: 韩建强;赵正前;朱安赐 申请(专利权)人: 中国计量大学
主分类号: G01L1/10 分类号: G01L1/10;G01L1/16;B81C1/00;B81B7/02
代理公司: 杭州九洲专利事务所有限公司 33101 代理人: 沈敏强
地址: 310018 浙江省杭*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明涉及一种梁‑岛‑膜一体化谐振式压力传感器结构及制造方法。本发明的目的是提供一种梁‑岛‑膜一体化谐振式压力传感器结构及制造方法。本发明的技术方案是:一种梁‑岛‑膜一体化谐振式压力传感器结构,具有谐振梁、感压膜片和位于感压膜片上的两个硅岛,所述谐振梁悬置于两个硅岛之间,该谐振梁上形成有激励电阻和压敏电阻;所述感压膜片、硅岛和谐振梁由一块(100)面硅片经各向异性腐蚀液腐蚀后形成;硅片在各向异性腐蚀液中腐蚀形成感压膜片和硅岛的同时,从(111)面腐蚀谐振梁下方的硅释放沿110晶向的谐振梁,获得一体化的梁岛膜结构;所述硅片的电阻率小于0.1Ω.cm,掺杂浓度小于自停止腐蚀浓度。本发明适用于微电子机械系统(MEMS)领域。
搜索关键词: 一体化 谐振 压力传感器 结构 制造 方法
【主权项】:
1.一种梁‑岛‑膜一体化谐振式压力传感器结构,其特征在于:具有谐振梁(9)、感压膜片(8)和位于感压膜片(8)上的两个硅岛(13),所述谐振梁(9)悬置于两个硅岛(13)之间,该谐振梁上形成有激励电阻(3)和压敏电阻(4);所述感压膜片(8)、硅岛(13)和谐振梁(9)由一块(100)面硅片经各向异性腐蚀液腐蚀后形成;硅片在各向异性腐蚀液中腐蚀形成感压膜片(8)和硅岛(13)的同时,从(111)面腐蚀谐振梁下方的硅释放沿<110>晶向的谐振梁(9),获得一体化的梁岛膜结构;所述硅片的电阻率小于0.1Ω.cm,掺杂浓度小于自停止腐蚀浓度。
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