[发明专利]曝光装置以及器件制造方法

摘要

本发明提供曝光装置以及器件制造方法。载物台装置具备平板(30)和晶片台(WST)，该晶片台(WST)搭载于平板(30)上，且在与平板相对的面上形成有喷出口(73)。在晶片台(WST)降落在平板上的状态下，在平板(30)与晶片台(WST)之间形成有气室(72)。加压气体从设置于晶片台主体(22)上的喷出口(73)向气室(72)内喷出，由气室(72)的内压抵消晶片台(WST)的自重。由此，能够以手动方式移动停止在平板上的晶片台。

主权项

1.一种曝光装置，经由投影光学系统利用照明光对基板进行曝光，该曝光装置的特征在于，具备：第1保持台系统，其配置于所述投影光学系统的上方，具有对由所述照明光照明的掩模进行保持的第1保持台、和能够将与所述投影光学系统的光轴正交的规定面内的第1方向作为扫描方向而使所述第1保持台移动的第1驱动系统；第1计测系统，其计测所述第1保持台的所述规定面内的位置信息；平板，其配置于所述投影光学系统的下方，以上表面与所述规定面大致平行的方式经由多个支承装置以非接触方式被支承；第2保持台系统，其配置于所述平板上，具有保持所述基板的第2保持台、和包括磁悬浮方式的平面电机的第2驱动系统，该平面电机在所述平板设置定子并且在所述第2保持台设置可动元件，在所述平板上悬浮支承所述第2保持台，并且能够在包括所述第1方向在内的6自由度方向使所述第2保持台移动；第2计测系统，其计测所述第2保持台的关于所述6自由度方向的位置信息；第1支承部件，其与所述平面电机不同，并在所述平板上悬浮支承所述第2保持台；以及控制装置，其以在所述基板的曝光动作中进行所述掩模和所述基板分别在所述扫描方向上相对于所述照明光相对移动的扫描曝光的方式，基于所述第1计测系统和所述第2计测系统的计测信息控制所述第1驱动系统和所述第2驱动系统，以在不进行基于所述平面电机实现的所述第2保持台的悬浮支承的情况下能够使所述第2保持台在所述平板上移动的方式，通过所述第1支承部件在所述平板上悬浮支承所述第2保持台。