[发明专利]隔离沟槽的填充设备以及填充方法在审

专利信息
申请号: 201810643957.6 申请日: 2017-08-09
公开(公告)号: CN108831856A 公开(公告)日: 2018-11-16
发明(设计)人: 不公告发明人 申请(专利权)人: 长鑫存储技术有限公司
主分类号: H01L21/762 分类号: H01L21/762;H01L21/67
代理公司: 北京市铸成律师事务所 11313 代理人: 王珺;武晨燕
地址: 230000 安徽省合肥市*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明公开一种隔离沟槽的填充设备,包括:设备入气口,设置于填充设备用于输入晶圆的一侧,用于向填充设备中通入含氧气体;化学过滤器,设置于所述设备入气口,用于过滤所述含氧气体中的杂质气体,以提供臭氧阻隔环境,其中,所述杂质气体包括臭氧;以及设备出气口,设置于所述填充设备用于输出所述晶圆的一侧,用于将所述填充设备中产生的废气排出,所述填充设备在所述臭氧阻隔环境中对所述晶圆的隔离沟槽进行填充。有效减小甚至消除隔离沟槽中的空洞,减少填充次数,降低成本。本发明还公开一种隔离沟槽的填充方法。
搜索关键词: 填充设备 隔离沟槽 填充 晶圆 臭氧 含氧气体 杂质气体 入气口 阻隔 化学过滤器 出气口 减小 排出 废气 过滤 空洞 输出
【主权项】:
1.一种隔离沟槽的填充设备,其特征在于,包括:设备入气口,设置于所述填充设备用于输入晶圆的一侧,用于向所述填充设备中通入含氧气体;化学过滤器,设置于所述设备入气口,用于过滤所述含氧气体中的杂质气体,以提供臭氧阻隔环境,其中,所述杂质气体包括臭氧;以及设备出气口,设置于所述填充设备用于输出所述晶圆的一侧,用于将所述填充设备中产生的废气排出;其中,所述填充设备在所述臭氧阻隔环境中对所述晶圆的隔离沟槽进行填充。
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