[发明专利]一种Si-P3HT杂化太阳能电池及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201810645087.6 申请日: 2018-06-21
公开(公告)号: CN108550704B 公开(公告)日: 2021-10-29
发明(设计)人: 张军 申请(专利权)人: 江苏日御光伏新材料科技有限公司
主分类号: H01L51/42 分类号: H01L51/42;H01L51/48
代理公司: 北京华仁联合知识产权代理有限公司 11588 代理人: 国红
地址: 214000 *** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及一种Si‑P3HT杂化太阳能电池及其制备方法,包括以下步骤:对n型硅片进行制绒处理;在所述n型硅片的下表面沉积钝化层并形成多个n型重掺杂区;在所述n型硅片的上表面的部分区域上形成多个p型扩散区;接着在所述n型硅片的上表面依次形成第一P3HT层、第二P3HT层、第一PEDOT:PSS层以及第二PEDOT:PSS层;接着在所述n型硅片的上表面制备正面铜栅电极;最后在所述n型硅片的下表面制备背面银电极。
搜索关键词: 一种 si p3ht 太阳能电池 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种Si‑P3HT杂化太阳能电池的制备方法,其特征在于:包括以下步骤:1)对n型硅片进行制绒处理,在所述n型硅片的上表面形成绒面层;2)在所述n型硅片的下表面沉积钝化层,利用刻蚀工艺在所述钝化层中形成多个呈矩阵排布的通孔,接着通过选择性扩散磷以在所述n型硅片的下表面的部分区域上形成多个n型重掺杂区,每个所述n型重掺杂区与每个所述通孔对应设置;3)利用掩膜在所述n型硅片的上表面选择性扩散硼,以在所述n型硅片的上表面的部分区域上形成多个p型扩散区,多个所述p型扩散区呈矩阵排布;4)在步骤3得到的所述n型硅片的上表面旋涂含有二硒化钼二维纳米材料和P3HT的第一氯苯溶液,其中,第一氯苯溶液中P3HT的浓度为1‑2mg/ml,二硒化钼二维纳米材料的浓度为0.03‑0.08mg/ml,旋涂的转速为4500‑5000转/分钟,然后进行第一退火处理,形成第一P3HT层;5)在步骤4得到的所述n型硅片的上表面旋涂含有二硒化钼二维纳米材料和P3HT的第二氯苯溶液,其中,第二氯苯溶液中P3HT的浓度为2‑3mg/ml,二硒化钼二维纳米材料的浓度为0.1‑0.2mg/ml,旋涂的转速为3500‑4000转/分钟,然后进行第二退火处理,形成第二P3HT层;6)在步骤5得到的所述n型硅片的上表面旋涂含有银纳米线的第一PEDOT:PSS溶液,所述第一PEDOT:PSS溶液中银纳米线的浓度为0.1‑0.2mg/ml,旋涂的转速为3000‑4000转/分钟,然后进行第三退火处理,形成第一PEDOT:PSS层;7)在步骤6得到的所述n型硅片的上表面旋涂含有银纳米线的第二PEDOT:PSS溶液,所述第二PEDOT:PSS溶液中银纳米线的浓度为0.3‑0.5mg/ml,旋涂的转速为2000‑3000转/分钟,然后进行第四退火处理,形成第二PEDOT:PSS层;8)在所述步骤7得到的所述n型硅片的上表面制备正面铜栅电极;9)在所述步骤8得到的所述n型硅片的下表面制备背面银电极。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于江苏日御光伏新材料科技有限公司,未经江苏日御光伏新材料科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201810645087.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top