[发明专利]一种采用压缩感知技术的光源掩模优化方法有效
申请号: | 201810645227.X | 申请日: | 2018-06-21 |
公开(公告)号: | CN108614390B | 公开(公告)日: | 2020-04-03 |
发明(设计)人: | 马旭;王志强;赵琦乐 | 申请(专利权)人: | 北京理工大学 |
主分类号: | G03F1/00 | 分类号: | G03F1/00;G03F1/70 |
代理公司: | 北京理工大学专利中心 11120 | 代理人: | 高会允;仇蕾安 |
地址: | 100081 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: |
本发明公开了一种采用压缩感知技术的光源掩模优化方法,本发明将光源优化SO问题构造为在解为非负约束条件下求解2范数的图像恢复问题,即: |
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搜索关键词: | 一种 采用 压缩 感知 技术 光源 优化 方法 | ||
【主权项】:
1.一种采用压缩感知技术的光源掩模优化方法,其特征在于,包括:步骤101、将光源初始化为NS×NS的光源图形J,将掩模图形M和目标图形栅格化为N×N的图形,其中NS和N均为整数值;步骤102、对所述光源图形J进行逐点扫描,并将所述光源图形J转化为N2×1的光源向量所述光源向量的元素值等于所述光源图形J的对应像素值;对掩模图形M进行逐点扫描,并将M转化为N2×1的掩模向量所述掩模向量的元素值等于所述掩模图形M的对应像素值;对目标图形进行逐点扫描,并将转化为N2×1的目标向量所述目标向量的元素值等于目标图形的对应像素值;步骤103、选定两组组基函数ΨJ和ΨM,使得光源向量和掩模向量分别在ΨJ和ΨM上是稀疏的;将光源向量在ΨJ上展开得到掩模向量在ΨM上展开得到其中和分别为展开后的系数;步骤104、采用初始的掩模图形M计算照明交叉系数ICC矩阵Icc,其大小为N2×NS2;并对目标图形和ICC矩阵Icc降采样分别得到和步骤105、将光源优化SO问题构造为如下的形式:其中指的优化结果;为向量的2范数;λ为权重系数;为向量的1范数;作为约束条件;步骤106、采用梯度投影的稀疏重构算法GPSR求解步骤105中的光源优化SO问题,获得对应最优光源图形的的优化结果计算优化后的光源图形为Ψ'J是ΨJ的转置;步骤107、根据步骤106中优化的光源计算空间成像I(θM)并扫描得到所述空间成像I(θM)的空间成像向量并对和分别进行降采样得到和步骤108、将掩模优化MO问题构造为如下形式:其中是的优化结果;为向量的低秩正则项,为向量的稀疏正则项,α和β分别为和正则项的权重系数;步骤109、采用分裂布莱格曼算法Split Bregman求解步骤108中的MO问题,获得对应最优掩模图形的向量计算优化后的掩模图形为Ψ'M为ΨM的转置。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
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