[发明专利]一种具有双真空室的真空灭弧室结构在审
| 申请号： | 201810645520.6 | 申请日： | 2018-06-21 |
| 公开（公告）号： | CN108565178A | 公开（公告）日： | 2018-09-21 |
| 发明（设计）人： | 张毅;冉园园;高春晖;甘巍 | 申请（专利权）人： | 中国振华电子集团宇光电工有限公司（国营第七七一厂） |
| 主分类号： | H01H33/664 | 分类号： | H01H33/664 |
| 代理公司： | 北京联创佳为专利事务所(普通合伙) 11362 | 代理人： | 韩炜 |
| 地址： | 550018 贵州省*** | 国省代码： | 贵州;52 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种双真空室真空灭弧室，包括外真空室（1）和内真空室（2），内真空室（2）设在外真空室（1）中；还包括静端件（3）和的动端件（4），静端件（3）由下至上依次穿过外真空室（1）和内真空室（2），动端件（4）由上至下依次穿过外真空室（1）和内真空室（2）。本发明具有两个真空室的灭弧室，可降低出现漏气时或低真空问题的概率，提高产品的可靠性，避免真空灭弧室的开断能力受影响，大幅提高了真空灭弧室的使用寿命。 | ||
| 搜索关键词： | 真空室 真空灭弧室 外真空室 双真空室 动端 静端 穿过 使用寿命 低真空 灭弧室 漏气 开断 概率 | ||
【主权项】：
1.一种具有双真空室的真空灭弧室结构，其特征在于：包括外真空室（1）和内真空室（2），内真空室（2）设在外真空室（1）中；还包括静端件（3）和动端件（4），静端件（3）由下至上依次穿过外真空室（1）和内真空室（2），动端件（4）由上至下依次穿过外真空室（1）和内真空室（2）。
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