[发明专利]一种X光宽带选能器件及其制作方法有效

专利信息
申请号: 201810647471.X 申请日: 2018-06-22
公开(公告)号: CN108877961B 公开(公告)日: 2020-05-01
发明(设计)人: 袁铮;曹柱荣;牛高;黎宇坤;邓克立;王强强;邓博;陈韬 申请(专利权)人: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
主分类号: G21B1/23 分类号: G21B1/23;B82Y20/00;B82Y30/00;B82Y40/00
代理公司: 中国工程物理研究院专利中心 51210 代理人: 翟长明;韩志英
地址: 621999 四*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明公开了一种X光宽带选能器件,该选能器件包括纳米柱阵列、薄金属层和支撑膜;纳米柱阵列制作在薄金属层的上表面,薄金属层的下表面粘贴支撑膜。该选能器件具有微元尺寸小、选能精度高的优点,可应用于空间分辨几个微米的成像诊断设备,实现带谱成像诊断。本发明还公开了一种X光宽带选能器件的制作方法,该方法利用X射线光刻技术在聚碳酸酯材料上打孔,再利用电化学沉积的方式在孔洞里生长纳米柱,可形成柱体垂直度高、侧壁粗糙度好的纳米柱;还可根据待选能段特征,制作任意高深宽比的正方形纳米柱阵列,通过灵活设计纳米柱的柱高、薄金属层的材料与厚度,以及X射线的掠入射角度可以实现软X射线范围内的任意能段范围的带通选能。
搜索关键词: 一种 宽带 器件 及其 制作方法
【主权项】:
1.一种X光宽带选能器件,其特征在于:所述的选能器件包括纳米柱阵列(1)、薄金属层(2)和支撑膜(3);所述的纳米柱阵列(1)为阵列的正方形金柱体;薄金属层(2)为金属铝或金属银的金属膜;所述的纳米柱阵列(1)制作在薄金属层(2)的上表面,薄金属层(2)的下表面粘贴支撑膜(3)。
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