[发明专利]一种平面磁控溅射阴极在审
申请号: | 201810647610.9 | 申请日: | 2018-06-22 |
公开(公告)号: | CN108588663A | 公开(公告)日: | 2018-09-28 |
发明(设计)人: | 朱刚毅;朱刚劲;朱文廓 | 申请(专利权)人: | 广东腾胜真空技术工程有限公司 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35 |
代理公司: | 广州市华学知识产权代理有限公司 44245 | 代理人: | 官国鹏 |
地址: | 526060 广*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明涉及一种平面磁控溅射阴极,包括阳极罩,设置在阳极罩内部的靶体,移动式设置在靶体内部的磁轭板,安装在磁轭板上的多个磁钢,安装在靶体上的靶材;靶体的上端设有凹槽,靶材位于靶体上端的凹槽内,阳极罩的上端设有敞口区域,从俯视方向上看,阳极罩的敞口区域包围着靶材。本发明的平面磁控溅射阴极的靶材利用率高,属于平面磁控溅射阴极的技术领域。 | ||
搜索关键词: | 平面磁控溅射阴极 阳极罩 靶体 上端 靶材 敞口区域 磁轭板 靶材利用率 移动式设置 体内部 磁钢 俯视 包围 | ||
【主权项】:
1.一种平面磁控溅射阴极,其特征在于:包括阳极罩,设置在阳极罩内部的靶体,移动式设置在靶体内部的磁轭板,安装在磁轭板上的多个磁钢,安装在靶体上的靶材;靶体的上端设有凹槽,靶材位于靶体上端的凹槽内,阳极罩的上端设有敞口区域,从俯视方向上看,阳极罩的敞口区域包围着靶材。
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