[发明专利]X射线成像装置以及X射线成像图像的合成方法有效

专利信息
申请号: 201810654573.4 申请日: 2018-06-22
公开(公告)号: CN109106388B 公开(公告)日: 2022-06-03
发明(设计)人: 佐野哲;白井太郎;土岐贵弘;堀场日明;森本直树 申请(专利权)人: 株式会社岛津制作所
主分类号: A61B6/00 分类号: A61B6/00
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供一种X射线成像装置以及X射线成像图像的合成方法。该X射线成像装置具备图像处理部,该图像处理部基于第一吸收像中的被摄体的位置与第二吸收像中的被摄体的位置之间的差异量来进行第一暗视场像与第二暗视场像的位置对准。
搜索关键词: 射线 成像 装置 以及 图像 合成 方法
【主权项】:
1.一种X射线成像装置,具备:X射线源;检测器,其检测从所述X射线源照射的X射线;多个光栅,所述多个光栅配置在所述X射线源与所述检测器之间,包括被照射来自所述X射线源的所述X射线的第一光栅和被照射通过了所述第一光栅的所述X射线的第二光栅;以及图像处理部,其根据由所述检测器检测到的X射线的强度分布来生成包括吸收像的第一图像以及在与所述第一图像相同的配置下拍摄到的包括吸收像以外的像的第二图像,其中,所述图像处理部构成为:基于在互不相同的两轴方向上将所述多个光栅和被摄体配置成第一相对位置和第二相对位置后拍摄到的图像中的、所述第一相对位置时的所述第一图像中的被摄体的位置与所述第二相对位置时的所述第一图像中的被摄体的位置之间的差异量,来进行所述第一相对位置时的所述第二图像与所述第二相对位置时的所述第二图像的位置对准。
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